機械
日立造船、Ｘ線量を抑制したＥＢ蒸着装置を開発
掲載日 2010年03月10日
日立造船はＸ線量を抑制した電子ビーム（ＥＢ）蒸着装置を開発した。２０１０年内にも、有機エレクトロ・ルミネッセンス（ＥＬ）照明の陰極のメタル成膜用に商用化する。同社がＥＢ蒸着装置を手がけるのは初。ＥＢ蒸着装置は、メタル成膜の主流となっている抵抗加熱方式の蒸着より成膜速度が高いが、従来はＸ線による基板への影響があった。低いダメージでＥＢ蒸着ができれば、有機ＥＬ照明の生産性向上が可能となる。
日立造船は開発したＥＢ蒸着装置で、基板と蒸発源の距離４００ミリメートル、１・７キロボルト、２００ミリアンぺアの設定で実験。一般的なＥＢ蒸着のＸ線量が数百ミリシ−ベルトあるのに対し、１３ミリシ−ベルトと大幅に低減し、基板上の有機層へ影響が出ないレベルであることを確認した。
蒸着速度は毎秒８ナノメートル（ナノは１０億分の１）で抵抗加熱方式の約８倍になるため、大幅に生産性が向上できるという。
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