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エレクトロニクス

ニュース拡大鏡/米インテル、蘭ASMLに出資

掲載日 2012年07月11日
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 オランダの半導体製造装置大手であるASMLは10日(米国時間9日)、米インテルからの出資を受け入れたと発表した。
 インテルが総額41億ドル(約3300億円)を投じてASML株式を最大15%取得。極紫外線(EUV)露光装置など次世代機の研究開発費を提供する。両社は世界の半導体大手が導入を競っているEUV露光と、直径450ミリメートルウエハーをそれぞれ2年前倒しで実用化する方針。今回の出資は、先端露光分野で競合するニコンにとって不利に働きそう。(栗下直也、日原将希)
 ASMLが次世代の露光装置開発を目的に開設した共同投資プログラムを通してインテルが資本参加する。インテルはまず21億ドル(約1700億円)を投じてASML株式の10%を取得した後、同社株主の承認を得てから5%を追加取得する。これと並行して、インテルは5年以内に10億ドル(約800億円)以上の研究開発費を投じる。

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