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蘭ASML、キヤノン、ニコンの大手3社のうち、唯一極端紫外線(EUV)露光装置の開発に成功しているASMLが市場トップを独走する。... こう力を込めるのは、ASMLジャパン(...
日本の半導体産業育成強化の動きを受け「実際に顧客が積極的に投資に動き始めている」と期待を込めるのは、ASMLジャパン社長の藤原祥二郎さん。 ... ASMLにとっ...
(ASMLが供給を独占する)極端紫外線(EUV)の導入が進んでいるが、3次元NAND型フラッシュメモリーや相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーは今...
写真はASMLジャパン提供 【記者の目/露光装置で大きな存在感】 ASMLは露光装置業界で圧倒的トップに立つ。... 日本市場では、台湾積体電路...
オランダの半導体露光装置メーカー、ASMLホールディングは、今週発生した火災でベルリン工場の一部を閉鎖した。... ASMLの広報担当者は、影響を受けた部分のみを閉鎖し、それ以外は操業してい...
露光装置最大手の蘭ASMLは、部材の逼迫に加え、物流管理センターの立ち上げに問題が生じたことで、一部装置の組み立て開始が数週間遅れた。
同社はEUV露光装置メーカーの蘭ASMLからEUVペリクルの技術供与を受け、5月までに岩国大竹工場(山口県和木町)で生産設備の商業生産を開始した。
ASMLは双方を両立したEUVペリクルを開発。... それがASMLの戦略だろう」と話す。... 三井化学は、ASMLからライセンス契約を受け、EUVペリクルの生産設備を新設。
東京エレクトロンは8日、ベルギーの研究機関imecと蘭ASMLが共同で運営するオランダの研究所「imec―ASML共同高NA EUV研究所」に自社の最先端の塗布現像装置を導入すると発表した。同...
三井化学はEUV露光機を生産する蘭ASMLから技術供与を受け、同社から生産移管する形でフォトマスク保護膜「EUVペリクル」の商業生産を始めた。ASMLが認める三井化学の“正規品”以外を使い、露光機が故...
蘭ASMLは、21年12月期の売上高予想を、1月時点では前年比で2ケタ増収を目標としていたところ、同30%増に上方修正。
同製品の技術を持つEUV露光装置メーカーの蘭ASMLからライセンス提供を受け、生産する。... 今後、EUV露光装置の進化に合わせて、ASMLと協力し、EUVペリクルの技術改良に取り組む。 &...
最も重要な露光装置は蘭ASMLが市場を独占するものの、検査や感光剤(レジスト)の塗布・現像など周辺装置分野では日本勢が高いシェアを持つ。
最も重要な露光装置は蘭ASMLが市場を独占するものの、検査や感光剤の塗布・現像など周辺装置分野では日本勢が高いシェアを持つ。
貿易法務部門と連携し、きめ細かな情報収集が必要となる」 【記者の目/ナノインプリントを軌道に】 半導体露光装置市場はキヤノン、ニコン、蘭ASMLの大手3社...
ただ、米アプライドマテリアルズや蘭ASML、米ラムリサーチといった他の世界トップ企業と比べると、営業利益率は最も低い。
三井化学は蘭ASMLとの間でEUV露光用フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」のライセンス契約を結んだ。ASMLはEUV露光装置とEUV用ペリクルを開発した唯一の企業で、同社の開発した技術をもとに三井化...
三井化学は最先端の半導体微細加工技術である極端紫外(EUV)露光工程向け部材のライセンス契約を蘭ASMLとの間で結んだ。ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カ...
