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フッ化アルゴン(ArF)液浸露光向けに加え、半導体の微細化に伴って高まることが予想されるEUV露光向けの需要拡大に応える。
ArF(フッ化アルゴン)液浸露光向けを中心に販売は好調で、今後は5Gなどの普及で需要増加が見込まれる最先端の極端紫外線(EUV)露光向けを拡販する。
半導体に回路パターンを焼き付ける露光工程向けの感光材「フォトレジスト」は、液浸フッ化アルゴン(ArF)露光などに対応する最先端製品の生産能力を19年度比2・25倍に引き上げる。
半導体に回路パターンを焼き付ける露光工程向けの感光材「フォトレジスト」は、液浸フッ化アルゴン(ArF)露光などに対応する最先端製品の生産能力を19年度比2・25倍に引き上げる。
JSRは液浸フッ化アルゴン(ArF)向けフォトレジストで世界シェアトップ、最先端の極端紫外線(EUV)向けフォトレジストでも上位に位置する。
AGCがEUV用から新規参入したのは、EUV以前のフッ化アルゴン光源露光などとは段違いの性能や品質が求められるからだ。
これまでフッ化アルゴン(ArF)液浸など旧来型の露光向けでは使用されているものの、より高い透過率が求められるEUV露光向けでは実用化に至っていなかった。
半導体製造工程では、イオン化したアルゴンがターゲット材にぶつかることで、ターゲット材の金属原子がはじき出され、基板のシリコンウエハー上に降り注ぎ膜ができる。
空気から酸素や窒素、アルゴンなど産業ガスを抽出する空気分離装置は数十年程度稼働させる場合が多く、定期的な部品交換が必要。
酸素や三フッ化窒素(NF3)、窒素、アルゴンなど小流量や大流量で複数の工程に使われるガスに有効活用できるとみている。
酸素や窒素、アルゴンといった産業ガスは鉄鋼や半導体、食品など幅広い産業で製造に欠かせない副資材や中間材料で使われる。
半導体材料事業については極端紫外線(EUV)、液浸フッ化アルゴン(ArF)向けリソグラフィー材料を四日市工場(三重県四日市市)で増産。
同設備では、液浸フッ化アルゴン(ArF)や極端紫外線(EUV)プロセス向けレジストを生産する。
そこでイオンミリングという手法でアルゴンイオンを試料表面に照射し、試料原子を弾き飛ばして表面を削ることで、鉄鋼材料の各種結晶組織や介在物に対してナノ・ミクロスケールでの明瞭な表面電位分布測定に成功した...