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記事検索結果
252件中、4ページ目 61〜80件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.027秒)
特に需要が高まっているのが、光源にEUVを使ったEUV露光用フォトマスク(半導体回路の原版)の欠陥検査装置で、同社が100%のシェアを持つ。従来EUV露光用マスクの検査では、主...
半導体用フォトマスクの欠陥検査の手作業を省き、検査時間を短縮する。... また、手作業によるフォトマスクの汚染も防止できる。 ... また、フォトマスクの生産現場では工程ごとに検査を...
【横浜】エヌエフ回路設計ブロックは、フォトダイオード(PD)や光電子増倍管(PMT)など微小電流出力センサーからの信号を高精度に検出するプログラマブル電流増幅器「CA5...
AGCは27日、半導体の生産工程で用いる消耗部材の極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクス(写真)の生産能力を現状の2倍程度に引き上げると発表した。... EU...
フォトマスク専業メーカーとしては5ナノメートル世代で初めての製造技術で量産体制を整えた。国内外のメーカーへのフォトマスク提供や、周辺技術の開発の支援で2023年に年間60億円の売り上げを目指す。...
回路パターンを描いたフォトマスクのわずかなキズや汚れ、歪みなどは大量の不良品を生む。... だが、開発メンバーを率いた宮井博基技術五部長は「フォトマスクになると難易度が全く違う。... フォトマスク上...
DICと子会社のトピック(埼玉県川口市)は静電気による放電破壊を防止するフォトマスクを開発した。クロムマスクに特殊コーティングを施した。... フォトマスクの遮光層に金属クロムが使われ...
同社はフラットパネルディスプレー製造用フォトマスク大手。売上高のほとんどがフォトマスクで、事業多角化に取り組んでいる。 &...
高機能スマホのさらなる超高精細化対応で有機ELパネル用フォトマスクの新製造設備を国内工場に導入した。... 有機ELは第5世代通信(5G)との親和性もあり、製造に使うフォトマスクの需要...
ハードディスク、フォトマスク用などの研磨パッドの受注が伸び、18年12月期の売上高は31億2000万円となった。
レーザーフォトマスク製造装置、アジア軸に拡販 独ハイデルベルグ・インストルメンツ(ハイデルベルク市)は、半導体業界向けにレーザーフォトマスク製造装置「ULTRA...
三井化学は蘭ASMLとの間でEUV露光用フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」のライセンス契約を結んだ。... 【微細化ニーズ】 このほかにもAGCはEUV露光用のフォトマスク材料&#...
ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」を独占的に生産、供給する。
エスケーエレクトロニクスは液晶パネル向けに、高精細のパターンを基板に転写する原版「フォトマスク」の製造が主力事業。
大日本印刷は23日、米フォトロニクスと設立した中国の合弁会社で半導体用フォトマスクの製造を始めたと発表した。... 同社はこれまで日本と台湾の製造拠点からフォトマスクを輸出していたが、現地での生産を強...
「18年は(半導体製造に使うフォトマスクなど)エレクトロニクス部門が好調だったが、米中貿易摩擦や為替レートの変動を含めると、今後予断を許さない状況になっている。... 今後はフォトマス...
