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【横浜】レーザーテックは、薄型ディスプレー(FPD)生産で使用する大型マスクブランクスの欠陥を高感度かつ短時間に検査できる装置の上位モデル「LBIS(エルビス)」を発売...

【横浜】レーザーテックは、炭化ケイ素(SiC)を使ったウエハーの表面と内部の結晶欠陥を同時に検査できる装置「WASAVIシリーズSICA88」を発売した。

レーザー金属積層造形装置と旋盤を組み合わせた「レーザーテック4300 3D」は、粉末噴射ノズルを使った指向性エネルギー堆積法を採用。

講師は「第12回勇気ある経営大賞」(東京商工会議所主催)を受賞したアイオイ・システム(東京都大田区)の多田潔社長と「第56回十大新製品賞」(日刊工業新聞社主催&...

【横浜】レーザーテックは半導体ウエハー検査測定装置「WASAVIシリーズ」で「BIM300=写真」を発売した。

【各社の動向】 ■DMG森精機/5軸MC組み合わせ DMG森精機のAMと5軸加工機のハイブリッド機「レーザーテック65 3D」 ...

レーザーテックは欠陥検出感度を従来比30%向上したマスクブランクス欠陥検査装置「M8350/M8351」の受注を開始した。

【電気化学反応可視化コンフォーカルシステム 「ECCS B310」】 「『電池内部の充放電の様子をその場で観察できる装置を作ってほしい』。こう言われたのがきっかけだっ...

【レーザーテック・楠瀬治彦副社長/新たな業界に参入】 3回目の受賞となるが、今回は顕微鏡の技術を利用して製品化に成功した。

【レーザーテック/電気化学反応可視化コンフォーカルシステム ECCS B310】 独自技術の「リアルカラーコンフォーカル光学系技術」を基に開発した。

レーザーテックは2008年秋のリーマン・ショック直後から財務体質の強化に取り組み、機動的な資金調達体制に尽力。... レーザーテックは1960年に創業し、76年には世界で初めてLSIフォトマスク欠陥検...

【大賞】▽向洋技研(相模原市中央区)=高速溶接技術を使ったテーブル型スポット溶接機▽ショウワ洗浄機(横浜市西区)=キャビテーション効果を用いた高速排水濾...

【横浜】レーザーテックは海外拠点で半導体ウエハー検査装置の販売を強化する。... レーザーテックは86年に米国に進出。

大林組はレーザーテックと共同で、光ファイバーによりトンネルなどの大規模構造物に生じた微少な変位を検知するモニタリング技術「光式AEセンサー」を開発した。

レーザーテックは異なる二つの光学系を融合したレーザーマイクロスコープ「OPTELICSハイブリッド」を開発した。

【横浜】レーザーテックは極紫外線(EUV)マスク裏面の定期管理や受け入れ検査などができる装置「BASICシリーズ=写真」を発売した。

レーザーテック 20ナノメートル(ナノは10億分の1)世代以降の半導体デバイス用フォトマスクに対応するマスク欠陥検査装置「MATRICS(マトリクス)X810シ...

【横浜】レーザーテックは従来機より検査速度を大幅に向上させた高速フォトマスク欠陥検査装置「MATRICS X700 HiTシリーズ=写真」を発売した。

【横浜】レーザーテックは電気化学顕微鏡システム「ECCS(エックス)B310=写真」を完成、受注を始めた。

【森精機製作所/旋盤でMC並み加工】DMGの複合加工機「レーザーテック65シェイプ」 「世界初公開でフルラインアップを図ったコンピューター数値制御(CNC)...

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