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同社は半導体製造初期に用いられた波長436ナノメートル(ナノは10億分の1)のスペクトル線を示すG線から現在の同13・5ナノメートルの極端紫外線(EUV)向けまで、業界...

開発中の極端紫外線(EUV)レジストは2021年内にも量産が始まる見通し。

JSR、米インプリアを買収 (2021/9/20 総合3)

JSRは極端紫外線(EUV)用メタルレジストに強みを持つ米インプリア(オレゴン州)を買収する。... 19年にEUV用メタルレジストの量産体制を整えた。......

沸騰・半導体市場 素材各社の戦略(23)日産化学、進化支える (2021/9/21 素材・医療・ヘルスケア2)

最先端の極端紫外線(EUV)向けでもBARC同様にレジストと基板の間に塗布するEUV下層膜を展開。... 和田部長は「半導体の高性能化とともに、EUVの利用率は伸びていく。

同社はEUVレジスト用ポリマーでも、この強みが生かせると判断。新井工場では21年度、ArF・EUV両レジスト用のポリマーが製造できる新しいパイロット設備を稼働する。EUVレジスト用ポリマーの厳しい品質...

最先端のEUV(極端紫外線)レジスト用モノマーも、レジストメーカーの採用が徐々に拡大している。 ... ArFレジストの需要拡大とEUVレジストの進展を踏まえ、両レジ...

住友化学、韓でフォトレジスト 需要増・BCP対応 (2021/9/1 素材・医療・ヘルスケア)

大阪工場では既存建屋に液浸ArFと極端紫外線(EUV)レジストの製造設備を増設し、23年度上期に稼働する。... 住友化学は現在ArFと液浸ArF、EUV用の最先端レジストを大阪工場で...

ADEKAは30日、極端紫外線(EUV)露光向け光酸発生剤の生産能力を従来比2倍以上に引き上げると発表した。... フッ化アルゴン(ArF)液浸露光向けに加え、半導体の...

微細化、EUV向け先行 【レジスト活況】 世界各地で進む半導体増産計画を前に、化学各社は半導体製造プロセス材料の増産投資を活発化している。... AGCはEUV向け...

ArF(フッ化アルゴン)液浸露光向けを中心に販売は好調で、今後は5Gなどの普及で需要増加が見込まれる最先端の極端紫外線(EUV)露光向けを拡販する。

「極端紫外線(EUV)など先端材料に加え、フッ化クリプトン(KrF)をはじめ既存材料も伸びた」と手応え。

沸騰・半導体市場 素材各社の戦略(13)東京応化、微細化推進 (2021/8/17 素材・医療・ヘルスケア2)

【シングルナノ】 同社は半導体回路の微細化に伴う光源の短波長化に合わせ、次世代技術とされる極端紫外線(EUV)を含むあらゆる光源に対応してきた。... 波長が13・5...

同社は液浸ArFの次の極端紫外線(EUV)露光用レジストで出遅れていたが、最近は「複数社に採用が決まり、追い上げができてきた」(勝田修之電子材料事業部長)と手応えを語る...

最先端の極端紫外線(EUV)向けフォトレジスト樹脂材に、不純物が混ざらない低メタル化技術を進展させる。

「最先端半導体の製造工程部材『EUVペリクル』の商業生産が始まるなど、目標の売上高1000億円へ順調だ。

最先端半導体製造用のフォトマスク保護膜「EUVペリクル」や半導体製造工程用テープ「イクロステープ」を展開し、中期的にICT分野で売上高1000億円規模を目指している。

【EUV向け増】 同社はルテニウムを用いた成膜材料「スパッタリングターゲット材」を、半導体ウエハー上に微細回路を形成する材料や、回路パターンを同ウエハーに焼き付ける原盤の母材「マスク...

しかし、EUV(極端紫外線)装置といった最先端のリソグラフィー装置はオランダ企業の独占状態にある。

JSRは液浸フッ化アルゴン(ArF)向けフォトレジストで世界シェアトップ、最先端の極端紫外線(EUV)向けフォトレジストでも上位に位置する。... 山口上席執行役員は「...

NILはシンプルな製造プロセスでEUV露光のように大電力を消費することもない。... 回路形成工程における1ウエハー当たり消費電力をEUV露光使用時と比較して10分の1程度にできることが分かった。&#...

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