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記事検索結果
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宮島准教授らは、シリコンヘテロ接合太陽電池向けの水素化アモルファスシリコンについて、スパッタ法の一つである「対向ターゲットスパッタ」を使うことで、SiH4ガスを用いずに形成できることを確認した。...
従来製法の「スパッタ法」と同等以上の速度で成膜ができると想定する。 ... スパッタ法は真空、高温の環境が必要だが、ミストデポジション法は大気圧で成膜ができる。... ミストデポジシ...
スパッタ法は化学気相成長法(CVD)に比べ装置コスト低減や材料の利用効率向上を図れる。... スパッタ法はターゲット材の純度に課題があり、使われていなかったが、東ソーは自社で原料から合...
高密度に蒸着可能な複合化合物膜の技術を高速蒸着技術に適用することで、一般的なスパッタ法に比べて成膜速度が100倍超に向上し、コストを5分の1以下に抑えた。... 水分から保護するための封止・保護では従...
SMVP―1020では、マイクロ波を利用したコーティング技術「MVP法」を採用した。... アーク法やスパッター法を採用した従来機と比べ、成膜速度は30―150倍程度まで向上する。 ...
実際にスパッタ法で合成した1平方センチメートルにつき2・2ミリアンペア時と実用的な面容量を持つナノ多孔シリコン負極膜が、全固体電池内で非常に安定な充放電サイクル特性を示すことを見いだし、電解液内より格...
SDC薄膜の結晶格子や酸素欠陥がプロトン伝導性に与える影響を調べ、特定の面方位に優先的に成長させた、酸素空孔を持つSDC薄膜をスパッタ法により作製した。
作製ではサファイア基板上に、スパッタ法で窒化アルミニウム(AlN)の膜を平らに作製。その後、有機金属成長法(MOVPE)を用いてAlNを再成長させ、その上に窒化物系半導...
クリーンルームのほか、エッチングやスパッタの装置を増設し、生産能力を同2倍に増やす。 ... 8インチのシリコン基板上にチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)薄膜をスパッタ法...
関東経済産業局長賞は宇都宮大学工学研究科の松山大介さんの「空間価値を高めるための身近な環境シミュレーションの活用」、日刊工業新聞モノづくり地域貢献賞は同科の漆原陸さんの「反応性スパッタ法による膜質制御...
(敬称略) 【重点研究開発助成(塑性加工)】▽早稲田大学理工学術院基幹理工学部・機械科学・航空学科/教授川田宏之「引抜き成形を用いたカーボン...
▽アセット・ウィッツ=高効率排熱回収の熱電発電用モジュール▽インテグラル・ジオメトリ・インスツルメンツ=先端電子部品内の電流の高分解能映像化装置▽尾池工業=医用材料評価向けスパ...
厚さ5マイクロメートル(マイクロは100万分の1)のポリイミドフィルム基板上にスパッタ法で製膜し、センサー感応部を形成している。
記憶部分を担うアルミニウム酸化物層をRFスパッタ法、アルミニウム配線層を真空蒸着で形成しフォトリソグラフィーで作製した。
薄膜作成技術には「ゾルゲル法」や「スパッタ法(スパッタリング法)」と呼ばれるものがあり、そのうちスパッタ法は機能性薄膜の作成に適しているとされる。 スパッタ法は真空中でプラズマ...
