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一般的なリソグラフィー露光機では、原図であるマスク上の電子回路パターンを写真の原理を使ってシリコンウエハー上に縮小して焼き付ける。... EUVリソグラフィーでは、マスク基板やウエハーの露光・現像後、...

京都府立大学の塚本康浩学長らの研究グループは、新型コロナウイルスと結合するダチョウ由来の抗体を使い、使用済みマスク上の新型コロナウイルスを肉眼で可視化することに成功した。...

第62回十大新製品賞/日本力賞 レーザーテック (2020/2/20 電機・電子部品・情報・通信1)

回路パターンを描いたフォトマスクのわずかなキズや汚れ、歪みなどは大量の不良品を生む。同装置はパターン付きマスクの検査を露光光源と同じEUVで行う「アクティニック・パターンド・マスク・インスペクション&...

バックアップピンやマスクを自動交換するほか、マスク上に残ったハンダを自動ですくい上げて交換したマスクに移載する機能を業界で初めて採用した。... プラスマイナス0・01ミリメートルと高度な繰り返し位置...

クリームハンダ粘性解析装置「レオロジーアナライザー」は、基板へのハンダ印刷現場でメタルマスク上のクリームハンダを採取しその粘性特性(ずり応力)を解析する。... 19年初頭には、同機に...

レオロジーアナライザーは、印刷現場でメタルマスク上のハンダを20cc程度採取し、押出容器に封入。... パソコン上で、ずり応力を縦軸に、ずり速度を横軸にしたグラフとして表示し、マスク開口部におけるハン...

標準仕様のマスクサイズは6インチ。フォトマスクメーカーや半導体業界向けに提案する。... 最近はフォトマスク上にハーフトーン膜を用いることで、位相を反転させて転写する微細化技術の採用が増えつつある。

セーレン 肌のリフトアップとエイジングケアが同時にできるシート状美容液マスク「コモエースディープモイスチュアリフトマスク」を発売した。... 1回分のマスク(上用1枚と下用1枚)...

主要なパターンの転写像を変調して解像度を高める、マスク上の「非解像パターン」配置を最適化する新アルゴリズムを開発した。... ArFエキシマレーザー光源を使う露光技術はこれまで、光の位相変調を使う位相...

アドバンテストは半導体フォトマスク用線幅測定電子顕微鏡(CDSEM)「E3610/E3620=写真」を自社ブランドで発売した。... 同装置は半導体フォトマスク上の微...

【横浜】レーザーテックは半導体部品の回路パターン原板となるフォトマスク上に生成したヘイズ(成長性異物)の除去システム「PROMAHAZE(プロマヘイズ)」を発売した。フ...

微細化でカギを握るのが、回路をシリコンウエハー上に焼き付ける露光技術。... またマスク上の欠陥がウエハーに転写することや異物発生の抑制なども考慮しなければならない。... 作業員がクリーンルーム内に...

小さな露光用マスクを並べ、ガラス基板上を移動しながら露光する方式。... 「イージス」は、平行に並べた小型マスクがガラス基板上を移動しながら露光する。... また、移動しながら露光するため、同一ポイン...

2010年の実用化が見込まれるチップ上の回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用した次世代半導体は、露光工程に露光を2回実施して微細な回路パターンを描く「ダブルパタ...

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