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記事検索結果
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搭載するモジュールの小型化に対応するため、写真製版技術(フォトリソグラフィー技術)による加工で縦2・0ミリ×横1・6ミリ×高さ0・7ミリメートルと業界最小クラスを実...
ガラス基板にも対応 ウシオ電機は半導体製造装置最大手の米アプライドマテリアルズと共同で、フォトマスク(半導体回路の原版)を必要としないデジタルリソグラフィー技術...
これに伴いエンコーダーディスクの需要も高まっており、DNPでは、高精度化や大ロット少品種化などの潮流に対し、液晶用カラーフィルターを30年以上製造して培った技術力を活用できると判断。... エンコーダ...
その製造には、原図の回路パターンをシリコンウエハー上に縮小露光するリソグラフィー技術が利用されている。... 電子回路の微細化に対応するため、リソグラフィーの露光波長の短波長化が進み、現在は波長13・...
EUVリソグラフィー技術は、量子科学技術研究開発機構(QST)も含む、大学、研究機関、企業での10年以上をかけた研究開発を経て実用化されている。 ... EUVリソグ...
半導体製造装置関連のユーザーらに新技術を訴求。... 「マーケットイン」と「プロダクトアウト」の両輪から顧客ニーズにマッチした技術を紹介・提案する。 28日の特別講演ではSCREEN...
ポンプレスドロップレットチップはヨダカ技研が持つ、半導体の製造工程において微細なパターンを転写する「ソフトリソグラフィー技術」を導入。
従来のフォトリソグラフィー技術よりも低い温度で作製でき、複雑な工程が不要になる上、材料の無駄がないオンデマンドな製法であるため、環境にやさしく大規模化も容易といった利点がある。 .....
この電子回路を作るために不可欠な技術がリソグラフィ技術だ。 ... リソグラフィ技術では、光の波長が回路の微細化・集積化のカギを握る。量子科学技術研究開発機構(QS...
ArFリソグラフィー技術は高機能な半導体向けとして現在主要な製造プロセスとされる一方、第5世代通信(5G)などの普及に伴い、EUV向けフォトレジストの需要増加が見込まれている。 ...
特にEUV関連では、最先端の半導体の製造に欠かせないEUVリソグラフィー技術の研究開発が進められてきた。EUVレジストなど基盤技術の開発では欠かせない存在となっている。 兵庫県大高度...
量産技術もめどをつけた。... 同シートはベースとなる樹脂フィルムに、感光材料を利用しパターンを生成するリソグラフィ技術で微細な孔を開け、硫化物系の固体電解質粉末を充填させ、加熱・加圧処理を施して作製...
大日本印刷は10日、5ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の半導体製造に対応した極端紫外線(EUV)リソグラフィ技術向けのフォトマスクの製造技術を開発したと発表した。...
生産にあたっては、ショットの高屈折ガラスウエハー、インクロンの高屈折ナノインプリントコーティング材、EVGのナノインプリントリソグラフィ技術、ウェーブオプティクスの光導波路の設計ノウハウなどを組み合わ...
日本電波工業はフォトリソグラフィー技術や応力解析シミュレーションを用いて、耐振動性能に優れた新しい発振器を開発した。
EUVリソグラフィー技術は半導体の微細化や集積度向上のニーズを背景に、線幅を10ナノメートル以下にする主要技術の一つとして普及が期待されている。
東京医科歯科大学大学院医歯学総合研究科の岩崎剣吾講師、森田育男理事らは、大日本印刷などと共同で、印刷の多色刷りの技術を応用して積層構造の細胞シートを作る手法を開発した。... 同手法は、半導体製造で使...
