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記事検索結果
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成膜工程に用いるALD(原子層堆積)材料や成膜助剤、後工程向けのプロセス材料など半導体関連材料の開発を中心に担う。
【オプトラン/急峻な立体構造に緻密な成膜】 オプトラン(埼玉県鶴ヶ島市)は、ALD(原子層堆積法)装置「ALDER...
現在は未来の製品に向け、技術提携先と異形状構造へ均一な薄膜を形成できる原子層堆積(ALD)法をはじめ、より高難度な成膜技術開発に注力。
新技術は分子線エピタキシャル成膜法(MBE)や原子層堆積法(ALD)に比べ、電気・光学特性設計のためドーピング量などの制御が可能。
原子層堆積(ALD)装置においてプロセスガスの変更による高温環境での使用にも対応可能にした。
旺盛な好奇心 未来拓く ADEKAの岡田奈奈さん(32)は半導体の微細化を支えるALD(原子層堆積)材料の開発を...
【オプトラン/スマホ向けALD装置紹介】 オプトランはスマートフォンや発光ダイオード(LED)向けで採用が進む原子層堆積(ALD...
電子デバイス研究開発用、窒化・金属膜など対応 【京都】サムコは化合物半導体など幅広い電子デバイスでの成膜に対応した原子層堆積(ALD)装置を開発し...
【京都】サムコはALD(原子層堆積)装置を中心とした薄膜形成装置開発やナノレベル(ナノは10億分の1)の酸化膜、窒化膜などの成膜プロセス技術開発に特...
オプトラン/スマホ向け原子層堆積装置 オプトランはスマートフォンやミニ・マイクロLED(発光ダイオード)向けの原子層堆積...
▽アトリエケー(兵庫県姫路市)=製造業の現場作業での負担を軽減するパワーアシストスーツの開発▽アビオスエンジニアリング(同)=カーボンフリーへの大きな起...
【発電特性を改善】 この開発では、太陽電池で一般的に用いられるピラミッド形状の結晶シリコン表面に原子層堆積法で製膜した酸化チタン薄膜(厚さ約5ナノメートル〈ナノは10億分の1...
米FORGE NANO/粉体に利用できる原子層堆積技術 米FORGE NANO(コロラド州)は、粉体に利用可能な薄膜コーティングの原子層堆積...
オプトラン/プラ基板に光学多層成膜 オプトランはプラスチック基板への光学多層成膜が可能なプラズマ原子層堆積(ALD)装置「ALDER―800P=写真...
同社は金属酸化膜をナノメートル(ナノは10億分の1)スケールで形成する原子層堆積法(ALD)コーティング技術で、従来は難しかった粉体へのコーティングが可能なノウハウを持...
明電舎は、オゾンとエチレンガスによる原子層堆積(ALD)でフィルムに成膜したサンプルの大きさを、実用レベルに引き上げる。
新製品として半導体光学向け水平型スパッタ装置OWLS―1800(写真)、光学薄膜用プラズマ原子層堆積装置A800Pなども紹介する。
山形大の広瀬文彦教授の開発した室温で金属酸化膜を50ナノメートル(ナノは10億分の1)に形成する量産技術(原子層堆積法=ALD)が同社設立の中核技術。
明電舎は、極薄フィルムなどに原子レベルの膜を積層する原子層堆積(ALD)成膜技術を開発した(写真)。... 酸化アルミニウム単層膜で膜厚40ナノメートル、水蒸気透過性は...
半導体製造プロセスは、原子層レベルで成膜する原子層堆積(ALD)が主流になり、メモリーの多層化なども加速している。
