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記事検索結果
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EUV露光に対応するEUVマスクは描画パターンが多く、描画時間を大幅に短縮できるマルチ電子ビーム描画装置での製造が主流。
エリオニクスは、電子ビーム描画装置のエントリーモデル「ELS―ORCA」を発売した。上位機種と同じ制御システムを搭載して高い描画性能を実現しつつ、価格を抑えた。
試作はある程度、上福岡工場(埼玉県ふじみ野市)の現有設備でできており、EUVの製造装置メーカー向けに装置評価用のマスクを提供している。... 検査装置などを導入する必要がある。マルチビ...
ガラス基板にも対応 ウシオ電機は半導体製造装置最大手の米アプライドマテリアルズと共同で、フォトマスク(半導体回路の原版)を必要としないデジタルリソグラフィー技術...
TOPPAN/次世代2ナノメートル、米IBMに供給 EUV露光に対応するEUVマスクは描画パターンが多く、描画時間を大幅に短縮できるマルチビーム描画装置での製造が主流。.....
【立川】エリオニクス(東京都八王子市、七野実社長)は、電子ビーム描画装置のエントリーモデル「ELS―ORCA=写真」を13日に発売する。上位機種と同じ制御シ...
最新鋭の高額な描画装置で(線幅が)緩いマスクを作るのはコスト高。古い描画装置をいかに維持するかが競争力につながる。... 当社が最も多くの装置を持っており、効率良く使いこなせている」&...
プリント基板でも微細で高品質な回路パターンを形成したいニーズが高まっており、直接描画装置「Ledia(レディア)」シリーズ全般を増産する。... データセンター(DC)...
【電子ビーム金属3Dプリンター JAM-5200EBM】 日本電子は電子顕微鏡や半導体用電子ビーム描画装置で培った電子ビーム制御技術を応...
半導体製造装置の真空装置内部に搭載する。... 設備や装置の予防保全、生産品質向上を実現する。... 電子顕微鏡や半導体製造用電子ビーム描画装置で培った技術を応用。
マスクレス3次元(3D)レーザー描画装置により、立体的・高精細・緻密な微細パターンを実現。... 金星/難流動性粉末供給に対応 金星&#...
新たに導入する化学的研磨装置は、3年前に拡張した増設棟に25メートル長の銅メッキラインを新設したことにより、空いているかつてのメッキ部屋に設置する。... 2年前に多層基板プレス装置を導入したことに連...
同社初の金属3Dプリンターで、半導体製造用電子ビーム描画装置で培った技術を生かした。... また、造形の進捗(しんちょく)や装置状況をモバイル端末などで確認できる遠隔監視機能も備えた。...
【諏訪】コシブ精密(東京都練馬区、荻原太一社長、03・3934・2670)は、2億3000万円を投じて独社製のレーザー描画装置を導入した。... 今後数千万円をかけ、洗浄装置や成膜装置...
【立川】エリオニクス(東京都八王子市、七野実社長、042・626・0612)は、同社従来製品比4倍となる走査速度400メガヘルツ(メガは100万)を実現した電子ビーム描...
【京都】SCREENホールディングスは21日、同社従来品比で生産性を最大50%改善できるプリント基板向け直接描画装置を開発、2021年1月に発売すると発表した。高精細な描画性能を維持しつつ、横...
マルチ電子ビームマスク描画装置の特性を生かし、新たな感光材料を含むプロセスを独自設計し、EUVマスクの微細構造に合わせて加工条件を最適化した。同装置の活用で、5ナノメートル世代の半導体用フォトマスク1...
―半導体製造装置を取り巻く状況をどうみていますか。 ... 開発した有機EL向けディスプレー用インクジェット描画装置についても継続的な技術革新を期待する。... 製造装置各社とも増産...
滋賀工場(滋賀県甲賀市)に線幅1マイクロメートルレベル(マイクロは100万分の1)の超高精細パターンが形成できる最新の描画装置をはじめ、検査機などの周辺装置も導入した。...
