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住友化学は22日、最先端の半導体製造プロセスである極端紫外線(EUV)露光向けフォトレジストの開発・評価体制を強化すると発表した。... 人工知能(AI)や第5世代通信(5G)などに使われる先端半導体...

大阪工場(大阪市此花区)で回路パターンを転写する露光工程用レジスト(感光材)生産設備を拡充し、20年に本格稼働させる。... 大阪工場では、高機能な半導体の主要な製造プロセスとなっているフッ化アルゴン...

第62回十大新製品賞/日本力賞 レーザーテック (2020/2/20 電機・電子部品・情報・通信1)

レーザーテックは最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高感度に検出するEUV欠陥検査装置ACTIS「A150」を製品化した。 EUV露光は201...

半導体、微細化に挑む 5G・EV進展で (2020/1/13 電機・電子部品・情報・通信)

直径200ミリメートルサイズの同クラスのi線露光装置は1995年に発売した装置以降、開発を止めていた。... 【設備補完強み】 極端紫外線(EUV)露光技術で微細な半導体を生産するメ...

2019年 第62回十大新製品賞 (2020/1/6 十大新製品賞)

【レーザーテック/アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS「A150」】 最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高感度検出する...

極端紫外線(EUV)露光技術で微細な半導体を生産するメーカーの採用を見込む。 ... EUV露光技術は7ナノおよび5ナノメートル世代の半導体デバイスの量産で活用されているが、回路線幅...

【横浜】レーザーテックは、半導体加工技術の極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高い感度で検出するEUV欠陥検査装置「ACTIS A150=写真」を製品化した。... EUV露光による半導体...

半導体の回路パターンを転写する工程に使うレジストは数種類あり、今回の対象は極端紫外線(EUV)光源と電子線(EB)露光に対応したもの。EUV露光は10ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の回路線幅を...

例えば今回対象となるレジストは、極端紫外線(EUV)光源や電子線(EB)を露光手段に用いた製造工程向けの製品。... 半導体用レジスト大手のJSRはベルギーでEUVレジストを量産しており、「影響を調査...

化学各社、EUV向け素材の供給体制整備 (2019/6/27 素材・医療・ヘルスケア)

化学各社は最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光工程向け素材の供給体制を整備する。... EUV露光を使った半導体の生産も始まっており、EUV材料市場が本格化しそうだ...

AGC、露光装置用フォトマスク材増強 生産能力3倍に (2018/11/29 素材・ヘルスケア・環境)

AGCは28日、光源に波長13・5ナノメートル(ナノは10億分の1)の極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けのフォトマスク材の生産能力を、2020年に現在比約3倍に増強すると発表した。半導体チップの...

【EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置「ABICS E120」】 微細な半導体の回路パターン転写を可能にする極端紫外線(EUV)を使った次世代露光技術が注目されている。レーザ...

【レーザーテック/EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置 ABICS E120】 次世代露光技術の極端紫外線(EUV)を使った微細な半導体パターン転写に対応した量産用EUVマス...

極端紫外線(EUV)用フォトレジストの量産を始めた。 実際、EUV露光装置の生産台数は年数十台。ArF露光装置の年産200台と比べると需要差は大きそうだが「当面は並行して使われるだろ...

「シリコンウエハーの搬送治具などに加工する炭化ケイ素(SiC)、露光装置のレンズ材などに使用する合成石英、シリコンウエハーの化学機械研磨(CMP)に使うセリア系スラリーを製造販売している。... 半導...

現行の10ナノメートルチップと同じ「ロー・パワー・プラス(LPP)」プロセスで製造され、より微細な電子回路作製への適用が期待される極端紫外線(EUV)露光装置は使わない。EUVは次の7ナノメートルプロ...

極端紫外線向け開拓 【JSR上席執行役員電子材料事業部長】 ―極端紫外線(EUV)リソグラフィーを視野に、材料の新会社を立ち...

半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、浦中克己社長、0285・28・8410)は、開発中の極端紫外線(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ(LPP)光源について、集光ミラー...

【横浜】レーザーテックは極端紫外線(EUV)を使った微細な半導体パターン転写に対応した量産用EUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査・解析装置「ABICS E120=写真」を開発した。... 半導体の...

JSRとベルギーの研究機関であるIMECは2日、同国の合弁会社で極端紫外線(EUV)フォトレジストの量産製造設備が完成したと発表した。光源にEUVを使う露光装置向けのフォトレジストの量産設備は世界で初...

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