- トップ
- 検索結果
記事検索結果
189件中、1ページ目 1〜20件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.004秒)
富士フイルムは25日、半導体ウエハー用研磨剤(CMPスラリー)の生産設備を熊本県菊陽町で本格稼働したと発表した。
富士フイルムはこのほど、後工程向けに特化した半導体研磨材料(CMPスラリー)の量産を始めた。CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が存在する半導体表面を均一にする研磨剤。
キトサンやヤシ油など天然素材と界面活性剤を合わせたワックスで無香料。... サンエークリーンは研磨剤入り、ブライトンは研磨剤の代わりに超微粒の珪藻(けいそう)土を配合。
放熱しやすい形状としたことで研削焼けを抑制でき、平面研磨の精度向上が見込める。... ガラス繊維を研磨剤でコーティングしたことで網状の構造を実現した。... 日本レヂボンはノリタケカンパニーリミテドの...
一方、化学系専門商社として研磨剤や塗料などの仕入れ先約2000社を抱えるが、その多くはリソース不足などで排出量の把握が難しく、仕入れ先の算定・開示・削減を促す支援が不可欠だった。
製造工程では印面を研磨しクロムメッキを施した後、再研磨する。... メッキ前の研磨が3マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の粒径の研磨剤を使うのに対し最終研磨で使うのは0・3マ...
新東工業はショットブラストマシンや投射材、研磨剤などの製造・販売を手がける表面処理事業でグローバル展開をする顧客に対し、各地域の拠点から製品・サービスを供給できる体制の構築を進めている。
ケメット・ジャパンは半導体ウエハーの研磨剤の販売と技術サポートを手がけ、売上高は9億7100万円(2023年3月期)。システム精工はハードディスクドライブなどの研磨装置の製造販売を手が...
研磨液に使う水は再利用できる。 液状の研磨材スラリーを使わない点も特徴。従来の研磨工程では研磨液として、ダイヤモンドやセラミックスを混ぜた特殊な研磨剤スラリーを使うため多量の廃棄物が...
ボタン製造から変化を恐れず業態転換 稗田化学工業(和歌山県田辺市、稗田智則社長)は、1961年にボタン製造で創業し、現在は樹脂研磨剤を手がけるメー...
水分散液タイプのCNFについて、研磨剤の分散剤やゴム・樹脂の補強材としての応用事例を解説した。
研究開発においても、旧日立化成のウエハー研磨剤を旧昭和電工の原料技術で補強するなどの「イノベーションのリレーが起きている」(高橋社長)と語る。
半導体研磨剤やセンサー用材料などが堅調で、23年も目立った調整があるとはみていない。
CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が存在する半導体表面を均一にするための研磨剤。... 前工程用と同じコロイダルシリカを砥粒に使用するが、後工程では対象物の性質が異なるため添加剤などの配合を工夫...
昭和電工マテリアルズは約99億円を投じて山崎事業所(ひたちなか市)に半導体向け研磨剤の新工場を24年開設する計画で、県が約4億9000万円を補助する。
子会社の山口精研工業(名古屋市緑区)では、ハードディスク駆動装置(HDD)用アルミ基板向け精密研磨剤を23年10月に同1・5倍に拡大する。... HDD用アルミ基板向け...
扶桑化学工業は9日、鹿島事業所(茨城県神栖市)に、シリコンウエハーの精密研磨剤や化学機械研磨(CMP)用途で使われる超高純度コロイダルシリカの製造設備を新設す...
