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化学機械研磨(CMP)装置の熊本県南関町の新生産棟『K3』が24年末に竣工し、30年までの需要増加に対応できる。
2000年から同工程で主流の化学的機械研磨(CMP)パッド加工装置の製造販売を開始し、その後も大学や研究機関と協力して次世代機の開発を継続。
富士フイルムは25日、半導体ウエハー用研磨剤(CMPスラリー)の生産設備を熊本県菊陽町で本格稼働したと発表した。同社グループとして国内初のCMPスラリー生産設備で、...
富士フイルムはこのほど、後工程向けに特化した半導体研磨材料(CMPスラリー)の量産を始めた。CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が存在する半導体表面を均一にする研磨剤。... 同社...
当社は化学機械研磨(CMP)装置をファウンドリーに納めており、生成AI関連需要の効果が間違いなくある」 ―熊本県南関町のCMP装置の新生産棟「K3」などの投資計画に変...
例えば、CMP(化学的機械研磨)スラリーは台湾と韓国、日本でも増強。
フォトレジストと現像液、CMPスラリーとポストCMPクリーナーなど隣接領域を組み合わせた提案の成功事例が出ており、こうした提案を強化したい。
その結果、切断後すぐに鏡面研削と化学機械研磨(CMP)、洗浄、検査を施すだけで完成品となる。 「研削後のRa(表面粗さ)は通常の1・0ナノメートル&#...
藤沢事業所は精密・電子セグメントの拠点のため、化学機械研磨(CMP)装置など半導体関連からVRの活用が進んだ。
CMPパッドなど増産 クラレが倉敷事業所(岡山県倉敷市)で事業構造の高度化に向けた取り組みを加速している。... 「半導体市場は、データセンター(DC)...
もう一つの主力の化学機械研磨(CMP)装置では、台湾にラボ(開発施設)を25年までに建設し、顧客の要望を製品に反映しやすくして競争力を高める。
従来の表面科学理論では説明できない現象だが、化学機械研磨(CMP)を省き半導体製造プロセスを短縮できる可能性がある。 ... 水素熱処理はCMPのダメージ層を除去する...
半導体関連の精密・電子事業は半導体需要拡大を追い風に好調で、ドライ真空ポンプは化学機械研磨(CMP)装置と並ぶ主力製品。
藤沢事業所は精密・電子セグメントの拠点のため、化学機械研磨(CMP)装置など半導体関連の製品からVRの活用が進んだ。 CMP装置などのアフターサービスのトレーニングを...
一連の投資によって、半導体研磨材料(CMPスラリー)のグローバル生産能力を現状比1・5倍に高める。 新工場はCMPスラリーに加え、フォトリソグラフィー周辺材料も生産す...
日本企業がほぼ独占している例を挙げると、半導体ウエハーに感光剤を塗って現像するコータ・デベロッパは東京エレクトロン(TEL)が世界の90%、走査型電子顕微鏡(SEM&#...
半導体製造装置の化学機械研磨(CMP)装置のラボも建設する。... 荏原は精密・電子事業でドライ真空ポンプやCMP装置などの半導体製造装置を手がける。... CMP装置は半導体のウエハ...
