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坂口浩司教授らは、細線の端を化学修飾したGNRをシリコンプロセス触媒として利用することを着想。原料を含む電解溶液に浸した金属基板にパルス電圧を印加することで酸化還元反応を起こし、室温で酸素ドープGNR...
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坂口浩司教授らは、細線の端を化学修飾したGNRをシリコンプロセス触媒として利用することを着想。原料を含む電解溶液に浸した金属基板にパルス電圧を印加することで酸化還元反応を起こし、室温で酸素ドープGNR...
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2024/10/01
2024/06/24
2022/09/26
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2024/10/06
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2024/10/06
2024/10/05