科学技術・大学

2020/10/1 05:00

窒化シリコン薄膜、光で半導体放熱 東大、第4の機構に道

東京大学生産技術研究所のユンフイ・ウー特任研究員と野村政宏准教授らは、光で窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増させることに成功した。伝導、対流、放射に次ぐ、「光」を使った第4の放熱機構...

技術で未来拓く・産総研の挑戦(140)次世代に残す地球観測データ

■国際規格で長期保存  【人類の重要資産】 産業技術総合研究所(産総研)は日米の関係機関と協力し...

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物材機構、マグネ電池容量20%向上 合金材を開発

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