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破断後に自己修復する高分子ゲル 横浜国大が開発
(2018/5/16 05:00)
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切断したゲル（横浜国大提供）
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切断後に修復したゲル（横浜国大提供）
横浜国立大学の玉手亮多研究員と渡辺正義教授らは、破断しても接触させると自然に傷が修復する高分子ゲルを開発した。３時間程度で機械強度が元に戻る。身体に装着するウエアラブルデバイスなどの耐久性向上につながる。イオン伝導性も高く、ウエアラブル（装着可能）なキャパシターやアクチュエーターの材料に提案していく。
新開発のゲルはポリスチレン粒子から水素結合性の高分子が伸び、...
（残り：428文字／本文：628文字）
(2018/5/16 05:00)
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