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箱内にアルゴンガスを満たして、空気を外に放出する。

しかし、溶接で使うアルゴンガスなどを扱う仕入れ先や物流関連の企業が、福島第一原子力発電所の事故を受けて運送を見合わせるなど、製品の出荷や工場の復旧作業に支障が出ている。

溶接用のアルゴンガスやレーザー加工機用の液化窒素などは卸業者に在庫があれば取りに行くなどして対応している。

JSRは2日、半導体製造工程で、1回のフッ化アルゴン(ArF)光源露光で回路線幅(ハーフピッチ)20ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の微細加工を行...

膜材粒子をプラズマ放電でイオン化し、窒素やアルゴンなどと反応させて金属化合物を生成する。

半導体製造で現在主流であるフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源にした液浸リソグラフィー技術を適用するため、半導体メーカーは大規模な設備投資をせずに集積度を高めたLSIの生産が...

国内製造業向けに窒素ガスオンサイト供給、各種液化ガス(酸素、窒素、アルゴンなど)の販売、ガス供給設備のメンテナンスを手がけている。

通常のDLCの原料ガスはアルゴンやアセチレン、水素を使う。

アルゴンガス環境下で、Gdなどの金属を混ぜた数マイクロメートル(マイクロは100万分の1)径の炭素微粒子を、局所的に8000―1万度Cになる直流式のプラズマであらかじめ溶かす。

EUVは波長13・5ナノメートル(ナノは10億分の1)で、フッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源にするのが現在主流の露光装置の10分の1以下。

これを実現する露光技術がEUVで、現在主流になっているフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源とする先端露光装置を置き換えていくと見られている。

アルゴン溶接機や30トン油圧プレス、シャーリングといった設備をそろえ、化学機器や食品加工機器、ボイラ、タンクなどを製造している。

新たに市場投入したフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源に用いる露光技術に対応するペリクルの供給体制を整えるのが目的。

イオンプレーティングは真空中にアルゴン、窒素を添加し、アーク放電により膜材粒子(チタン)をイオン化して製品表面に薄膜を形成する。

柳佳昭さんをリーダーとするグループ「アルゴンサークル」が活動を推進した。

対応強化策の一つが、50億円を投じて08年に稼働した70トンアルゴン酸素真空精錬炉「AVS」だ。... AVS稼働以前の精錬は、いったんアルゴン酸素脱炭(AOD)炉で炭素分を取り除いた...

イオンプレーティングは装置内を真空状態にして膜材粒子をプラズマ放電でイオン化、その粒子を窒素、アルゴンなどと反応させて金属化合物を生成する。

メタンやアルゴンガス、微量の水素を満たした装置の中に銅箔の基板を置き、電子レンジと同じ周波数2・45ギガヘルツ(ギガは10億)のマイクロ波を流してプラズマを起こすと、銅箔表面上にグラフ...

従来のプラズマを使った気体の分解方法では、アルゴンなどイオン化しやすい気体でプラズマ状態をつくった上、分解したい気体を少量ずつプラズマ中に導入するため、効率性に限界があった。

酸化に弱いチタンだけに、溶接には酸素や不純物が入らないようにアルゴンガス雰囲気中で適した電流、速さでこなすことが求められ、鉄やステンレスとは違う難しさがある」 ―難しい点とは。

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