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【平坦度50マイクロメートル以下】 00年以降、半導体シリコンウエハーの直径は、8インチから12インチへ移行。... ウエハーの平坦(たん)度も100マイクロメートル(...
ミラー用基板の表面平坦度を原子レベルまで平滑化し、その上に高品質なミラー膜を形成することで99・999%レベルの高い反射率を達成した。
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【平坦度50マイクロメートル以下】 00年以降、半導体シリコンウエハーの直径は、8インチから12インチへ移行。... ウエハーの平坦(たん)度も100マイクロメートル(...
ミラー用基板の表面平坦度を原子レベルまで平滑化し、その上に高品質なミラー膜を形成することで99・999%レベルの高い反射率を達成した。
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