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記事検索結果
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深紫外から近赤外域まで幅広い光を高強度で出せるため、半導体や液晶などの露光装置光源に使える。... 従来の一般的なキセノンランプは、連続スペクトルの発光が可能だが、露光用水銀ランプに比べて紫外線強度が...
(大阪府大東市) 業界内でシェア拡大 ユメックス社長・千木慶隆氏 (1)露光用ランプなどを作る工場の稼働率は約80%...
正確な露光には平行光が必要となるが、UVLED光源はLEDの光が広がる角度となる指向角が約120度と広く、露光用に取り込む光量が不足する傾向があった。 ... これにより新しい露光装...
レーザーテックは最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高感度に検出するEUV欠陥検査装置ACTIS「A150」を製品化した。 E...
【レーザーテック/アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS「A150」】 最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マ...
【横浜】レーザーテックは、半導体加工技術の極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高い感度で検出するEUV欠陥検査装置「ACTIS A150=写真」を製品化した...
三井化学は蘭ASMLとの間でEUV露光用フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」のライセンス契約を結んだ。ASMLはEUV露光装置とEUV用ペリクルを開発した唯一の企業で、同社の開発した技術をもとに三井化...
半導体チップの回路パターンの微細化に必要なEUV露光技術の需要拡大に対応する。... 生産能力を増やすのは「EUV露光用フォトマスクブランクス=写真」と呼ばれる部材。... EUV露光技術は「...
サーボモーターやロボット用などに受注が好調なロータリーエンコーダーメーカーからの、スリット板の増産要請に応える。 ... 露光用フォトマスクも内製化するほか、ライフルスコープ向けガラ...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)はオープンプラットホームの半導体製造装置解析ソフトウエア「FABSCAPE」の提供を始めた。
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は最先端の液浸露光(リソグラフィー)装置向けArF(波長193ナノメート...
電子事業は需要が見込める極端紫外線(EUV)露光用のフォトマスクブランクスの供給体制を拡充する。
ミライムは半導体用フォトレジスト液の濾過に使われ、需要が大きく伸びている。... ミライムはウエハーの表面に塗る露光用のレジストを濾過し、異物を取り除く。... また、リチウムイオン二次電池用セパレー...
PEメンブレンに商機 ―フォトレジスト製造用の微多孔膜(メンブレン)を供給しています。 ... ウエハーの表面に塗る露光用のフォ...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、浦中克己社長、0285・28・8410)は、開発中の極端紫外線(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ&...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、浦中克己社長、0285・28・8410)は、スペクトル幅制御技術「hMPL」を開発した。... 微細化によってプロセスウイ...
2016年に京セラグループの光学部品子会社「メレスグリオ」を吸収合併し、前工程の露光工程で使用する大口径レンズ技術を取り込んだ。旧メレスグリオは基板の回路パターン描写に使用する露光用の大口径レンズに強...
【横浜】レーザーテックは極端紫外線(EUV)を使った微細な半導体パターン転写に対応した量産用EUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査・解析装置「ABICS E1...
