韓国国内では19年以前の時点で、サムスン100%子会社のSEMESが枚葉式洗浄装置で、同じくサムスンが出資するKCテックがCMP装置でそれぞれ日本勢のシェアを上回るなど、世界全体とは異なる状況...

第1弾として研磨材料(CMPスラリー)をはじめ半導体・電子材料での無機基板と有機分子の相互作用メカニズム解析への活用を始めた。

22年には半導体研磨材料(CMPスラリー)や半導体パッケージ用銅張積層板の増産投資を相次いで決めた。

富士フイルムは半導体製造の後工程向けに特化した半導体研磨材料(CMPスラリー)を2023年末をめどに市場投入する。... CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が...

昭和電工マテリアルズは山崎事業所勝田サイト(茨城県ひたちなか市)での半導体集積回路向け平坦化研磨材料(CMPスラリー)の設備投資計画が、茨城県の次世代産業集積・カーボン...

扶桑化学工業は9日、鹿島事業所(茨城県神栖市)に、シリコンウエハーの精密研磨剤や化学機械研磨(CMP)用途で使われる超高純度コロイダルシリカの製造設備を新設す...

ロボットのほかには、無人搬送車(AGV)・自律移動ロボット(AMR)、FA装置、工作機械、ウオータージェット加工機、化学機械研磨(CMP)装置などの利用...

精密・電子事業では好調な半導体製造装置、化学機械研磨(CMP)装置の生産を増強する。... 製品や地域で重複がほぼなく、シナジーが見込める」 ―CMP装置は熊本県南関...

エッチング装置などに使用される流体制御機器メーカーであるCKD、洗浄装置に組み込まれるフッ素樹脂継手(つぎて)の日本ピラー工業、そして化学的機械研磨(CMP)による平坦...

リソグラフィー材料、CMPスラリーや洗浄剤といったプロセス材料、実装材料など幅広い材料開発を手がけ、半導体産業のニーズを全方位でカバーできる体制で取り組んでいる」 ―2021年7月に...

富士フイルムは国内で半導体ウエハー用研磨剤(CMPスラリー)の生産を始める。... CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が混在する半導体表面を平坦化するための研磨剤で、半導体製造プ...

昭和電工マテリアルズは1日、約200億円を投じ半導体回路平坦化用研磨材料「CMPスラリー」の生産能力と評価機能を増強すると発表した。... 同社はCMPスラリーで世界シェア2位。....

同社は新たに約200億円を投じ、ウエハー研磨剤(CMPスラリー)の生産能力を従来比2割引き上げることを決めた。

納期が長期化している案件もあるので、生産台数をさらに上げたい」 ―化学機械研磨(CMP)装置では熊本県南関町の工場の生産能力を5割増強する投資を決めました。 ...

荏原は14日、半導体製造装置の化学機械研磨(CMP)装置の生産能力を現状の1・5倍以上に増強すると発表した。... CMP装置は半導体のウエハーを研磨する...

同社は半導体材料メーカーで、多層な半導体の平面研磨(CMP=化学的機械研磨)を行う際の砥粒(とりゅう)として使用されるコロイダルシリカのトップメーカーである。コ...

フォトレジストやCMPスラリー、ポリイミドなど手がけているが、技術力を高めて製品の幅を広げ、より強い推進力にしていきたい」 ―海外売上高比率が60%と高いです。

昭和電工マテリアルズは半導体ウエハー研磨剤(CMPスラリー)やダイボンディング材料、パッケージ基板用銅張積層板など複数の製品で、世界シェアトップ級。20年12月には台湾と韓国でのCMP...

また、両社の技術が交わる半導体ウエハー研磨剤(CMPスラリー)では機能向上の成果が出ており、さまざまな段階で交流が進む。

ウエハー研磨剤(CMPスラリー)やパッケージ基板材料など世界1―2位の製品を複数抱えており、作り負けないことが重要だ。 ... 山下は「米国にはCMPスラリ...