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DRAMは業界再編が進んで供給過剰が解消されれば、徐々に価格も回復すると思う」 ―先端半導体製造用のフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置のみは期待できます。 ... A...

特に屈折率の高い純水を用いて解像度を高めるArF(フッ化アルゴン)液浸露光装置などは製造コスト削減につながるため、顧客からの問い合わせは多い。... ウエハー1枚当たりのコストは、当社...

【フェルトホーフェン=安久井建市】ASMLは、08年7―9月期の露光装置(新品のみ)の受注台数が前年同期比48・6%減の18台(前年同期35台)になった...

【フェルトホーフェン(オランダ)=安久井建市】半導体露光装置メーカーが先端・次世代半導体製造に用いるArF(フッ化アルゴン)液浸露光装置(用語参照...

同7―9月期には装置売上高の80%をArF液浸露光装置「XT1900i」が占めると見込む。 ... キヤノンは08年下期(7―12月)にArF液浸露光装置を1台販売する...

メモリーメーカーは露光装置の大口納入先である上、ArF液浸は1台40億―50億円することから、ニコンにとってインパクトは大きい。 エルピーダでは8月末までに、ASMLとニコンのArF液浸露光装...

ニコンは6日、熊谷製作所(埼玉県熊谷市)と栃木ニコンプレシジョン(栃木県大田原市)に新棟を建設し、フッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置の生産能力を201...

オランダのASMLはフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源にした半導体用の液浸露光装置「TWINSCAN XT1950i」を開発した。チップ上の回路線幅30ナノメートル...

量産では半導体回路をウエハーに焼き付ける露光工程に、フッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を用いた2回露光(ダブルパターニング)方を採用する方針。解像度を高めたArF液浸...

ダブルパターニングでは45ナノメートルプロセス品の量産に用いるフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を使用するため、従来技術を抜本的に変えずに対応できる。 ... これまで露光光...

「回路をウエハーに焼き付ける露光装置の開発動向がカギを握りそう。32ナノメートルプロセスは今まで通り投影レンズとウエハーの間に純水を満たして解像度を上げるフッ化アルゴン(ArF)液浸露...

20ナノメートル世代では、フッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源に用いた従来の露光装置では、微細な回路パターンを焼き付けられない。... さらに、事業的にはEUV露光装置の開発...

45ナノメートルプロセスで用いたフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を用いるため、大がかりな装置開発がいらない。高屈折率液浸は投影レンズの先端の材質が現状でも定まっておらず、また、EU...

現在稼働しているオランダのASML製のArF液浸露光装置「1700i」1台に加えて、相模原事業場(神奈川県相模原市)からASML製の液浸露光装置1台を移設、直径300ミリメートルウエハ...

半導体露光装置は08年に需要が落ち込む見通しだが、先端半導体に用いるArF液浸露光装置は逆に販売台数が増える。ArF液浸は一台当たりの価格が40億―45億円するため、i線やKrFを光源に用いた露光装置...

露光装置は今後、台数が減る一方、1台の価格が高いため金額が増える」 ―付加価値の高いフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置の受注見通しについては。 ... 投影レンズとウ...

このため、回路をウエハーに焼き付ける露光工程に1台40億円するフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を複数台導入。これを含め100台近くの露光装置を導入する。 ... 同30ナノ...

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