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記事検索結果
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光学フィルム、有機ELの部材、フォトマスク(半導体回路の原版)といったエレクトロニクス事業でも好調を維持できている」 ―21年11月時点では、21年10―2...
対象は、シリコンウエハー上への回路図の転写に用いられるフォトマスクブランクス。... 表面に半導体の回路原版を形成し、フォトマスクとして使われる。露光装置内でフォトマスクにEUVを反射させ、回路をウエ...
それまではスクリーンマスクやフォトマスクなどプリント基板の印刷原版を作る会社の開発部で働いていた。
三井化学はICT分野の強化のため、複数部署に分散しているイクロスやフォトマスク用防塵カバー「ペリクル」、光学樹脂「アペル」などのICT関連製品を集めて22年4月にICTソリューション事業本部と研究セン...
同制度への移行に向け、トッパン・フォームズの完全子会社化のほか、22年4月にはフォトマスク(半導体回路の原版)事業の分社化も行う予定。
レーザーテックは、フラット・パネル・ディスプレー(FPD)フォトマスク欠陥検査装置の新機種を発売した。最高検出感度0・3マイクロメートル(マイクロは100万...
自動車向け視野に品種拡充 日本ゼオンは、CPU(中央演算処理装置)など半導体デバイスの熱伝導性を高めるシート系放熱材料「TIM」や、フォトマスクに回路パターンを形成す...
最先端半導体製造用のフォトマスク保護膜「EUVペリクル」や半導体製造工程用テープ「イクロステープ」を展開し、中期的にICT分野で売上高1000億円規模を目指している。
欧州の半導体メーカー向けにフォトマスク(回路原版)を製造・販売する、大日本印刷の伊子会社。... フォトマスクを扱う人材として同社初のシンガポール駐在を経験。
開発費増、共創・協業で対応 半導体業界の活況を受け、総合印刷会社の半導体用フォトマスク(回路の原版)事業にも追い風が吹いている。... QYリサーチがまとめた調査リポ...
ポリマー関連技術で新領域開拓 三井化学は、半導体製造工程で主要部材のフォトマスクを保護する膜製品「ペリクル」と半導体製造工程用テープ「イクロステープ」を2本柱に、半導体材料事業を拡大...
最先端の極端紫外線(EUV)を用いた半導体製造プロセス向けで、ウエハーに回路図を焼き付ける時の原版(フォトマスク)の母材市場に新規参入。... 顧客がブランクス上に回路...
(張谷京子) ペリクルはフォトマスク(半導体回路の原版)の表面に装着する薄い保護膜。傷やホコリを付きにくくし、フォトマスクの検査・交換頻度を抑制する。...
AGC、フォトマスク母材拡販/三井化、保護膜“正規品”生産 極端紫外線(EUV)露光プロセス向け半導体材料・部材の需要が拡大してきた。AGCは、EUV用から...
三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。
THKの高精度位置決めが可能なLMガイドは、ウエハーを切断するダイシングやチップとフレームを結ぶワイヤボンディングなどの後工程だけでなく、フォトマスク作製、インゴットの引き抜き、パターン形成などの前工...
