- トップ
- 検索結果
記事検索結果
119件中、3ページ目 41〜60件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.014秒)
三井化学は最先端の半導体微細加工技術である極端紫外(EUV)露光工程向け部材のライセンス契約を蘭ASMLとの間で結んだ。ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カ...
ニコンは露光装置とデジタルカメラの特許に対する訴訟手続きについて同社と蘭ASML、独カール・ツァイスSMTの3社が包括的和解で基本合意したと23日に発表した。
▽ベルト・サボナイエ社長はオランダのASMLに帰任▽交代理由=経営体制の強化、前任者の任期満了▽就任日=4月11日▽本社=東京都品川区北品川4の7の35(半導体露光装置...
ニコンは24日、同社の半導体露光装置の特許を侵害しているとして、蘭ASMLと独カール・ツァイスに対してオランダとドイツ、日本の3カ国で訴訟を提起したと発表した。
現状、ニコンは先端技術では蘭ASMLに完敗し、フッ化クリプトン(KrF)など旧式装置では低価格と短納期が強みのキヤノンに勝てない。
半導体製造装置事業では最大手の蘭ASMLへの対抗は難しいと判断し、最先端の液浸タイプのフッ化アルゴン(ArF)露光装置開発を大幅に縮小する。
(ブルームバーグ) サムスン電子は、18日、蘭ASMLや米 シーゲート・テクノロジー、 米ランバス、 シャープの株式を売却したと電子メールで発表した。&...
地道に顧客ニーズにマッチした製品を提供し、信頼を勝ち取り販売を伸ばしていく」 【記者の目/蘭ASMLの厚い壁に挑む】 キヤノンは半導体露光装置の主力拠点で...
キヤノンは先端のフッ化アルゴン(ArF)液浸装置の開発が順調にいかず、露光装置業界でオランダのASML、ニコンの後塵(こうじん)を拝してきた。
キヤノンは先端のフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置の開発につまずき、オランダのASML、ニコンとの競争にさえ加われない状況が続いた。... 先端のArF液浸装置はASMLが8割以上の...
半導体前工程製造装置(14年)でも、米アプライドマテリアルズ、東京エレクトロン、蘭ASMLといったトップ5で67%、さらにシリコンウエハーでは日本の信越半導体、SUMCOの2社...
先端装置の「ArF液浸」を手がけるのはニコンと蘭ASMLの2社のみだが、ニコンのシェアは15%(14年3月期)にとどまる。... 並行して「性能面で競合(ASML...
ASMLがEUV露光装置の実用化に成功すれば、日本勢はシェア争いでより一層劣勢に立たされるだけに、その研究開発動向は常に注目の的だ。 ... 〈企業データ〉 本社&...
いずれにせよナノインプリト技術を使った装置が工場に入ったことは、研究開発段階から大きく進歩した証であり業界へのインパクトは大きい」 ―ナノインプリント技術を巡ってはASMLも関連特許...
「(ASMLの)動向をウオッチしているが、研究開発はあまり進展していないと判断している。... この4月に受注を始めた最新モデル『S630D』は初めて(ASMLの)競合...
蘭ASML、ニコン、キヤノンの露光装置メーカー3社のキーマンに戦略を聞いた。1回目はASMLの日本法人エーエスエムエル・ジャパンの石綿宏社長。 ... 一方、全方位で技術開発を進め、...
【久しぶりに注目】 性能で蘭ASMLをしのぐというArF液浸装置を投入したニコン。... 革新的技術でASMLの先行を許したことが日本勢が衰退した原因だ。... 巨人ASMLを前に劣...
