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GaNでは難しいノーマリオフ型FETの試作にこぎつけ、目標としていた金属酸化膜半導体(MOS)―FETの50分の1のオン抵抗を達成した。

パナソニックは16日、窒化ガリウム(GaN)を用いて高耐圧と低オン抵抗を両立したダイオードを開発した。... オン抵抗52ミリオーム平方センチメートルで従来のGaNダイオードに比べ約2...

【SiC素子】 そのSiC素子を空調機器のインバーター制御などに組み込むと、オン抵抗は従来に比べ10分の1になるというデータもあり、省エネ効果はきわめて高い。

SiCのニーズが高まっている理由には、IGBTなどの中・高耐圧のパワー半導体で、電力損失を決めるオン抵抗がSiの物理限界に近づいているため。

素子動作時の抵抗(オン抵抗)値は最小10・5ミリオーム。

このため電流が流れたときに発生する『オン抵抗』を減らす研究開発を進めている。

特に電流発生・測定範囲を5アンぺアに拡大し、導電材料やメッキ評価などの低抵抗測定、スイッチのオン抵抗測定など、用途を広げた。... 基本確度はプラスマイナス0・02%、最小抵抗測定分解能は0・...

作製したMOSFETの性能は耐圧(オフの時、素子に印可できる最大電圧)1540ボルト、オン抵抗(値が低いほど素子内部で発生する電力損失が少ない)50ミリオーム平方センチ...

電流が流れた時に発生するオン抵抗は、現在主流のシリコンダイオードの約10分の1の0・85ミリオーム平方センチメートルに抑え、インバーターのエネルギーロスを約20%低減した。

ノートパソコン用は、素子の動作時の抵抗(オン抵抗)値は1・9ミリオーム。

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