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記事検索結果
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【横浜】レーザーテックは、異なる二つの光学系を融合したレーザー顕微鏡「オプテリクス ハイブリッド」を改良し、長寿命の発光ダイオード(LED)光源と高分解能のZ軸(高さ方...
【レーザーテック/アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS「A150」】 最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マ...
【横浜】レーザーテックは、半導体加工技術の極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高い感度で検出するEUV欠陥検査装置「ACTIS A150=写真」を製品化した...
2010年には主力市場の台湾に、現地法人のレーザーテック台湾(新竹県)を設立し、販売や技術サービスを強化した。... 台湾の時代からレーザーテックをよく知る顧客からは、中国にも現地法人...
半導体メモリーの一部大手メーカーの投資延期など市場の変化に対し「当社が受けるマイナスの影響は小さい」と分析するのは、レーザーテック社長の岡林理さん。
レーザーテックはEUV露光の実現に不可欠なEUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査/レビュー装置「ABICS E120」を製品化した。 ... レー...
【レーザーテック・楠瀬治彦副社長/受注も好調】 超高真空下での極端紫外線(EUV)マスクブランクス欠陥の検査装置開発は初めて。
【横浜】レーザーテックは次世代半導体ウエハーの窒化ガリウム(GaN)ウエハーに特化した欠陥検査/レビュー装置「GALOIS(ガロワ)=写真」を開発し受...
【横浜】レーザーテックは、10・5世代の大型フラット・パネル・ディスプレー(FPD)向けフォトマスク検査システムを開発した。
【横浜】レーザーテックは、薄型ディスプレー(FPD)用大型マスクブランクス(原版)欠陥検査装置「LBIS(エルビス)」を改良し、近く投入する。
独自データベースを活用─レーザーテック レーザーテックは半導体、エネルギー・環境、薄型ディスプレー(FDP)の関連装置、レーザー顕微鏡の...
【横浜】レーザーテックは極端紫外線(EUV)を使った微細な半導体パターン転写に対応した量産用EUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査・解析装置「ABICS E1...
5軸マシニングセンター(MC)「DMU50 3rd ジェネレーション」、金属積層造形装置とMCを組み合わせた「レーザーテック75 シェイプ=写真」などの...
【横浜】レーザーテックは半導体ウエハー面のパターン線幅の異常やバラつきを検出するリソグラフィープロセス検査装置「LX530=写真」を製品化した。
レーザーテックはウエハーの表面と内部の欠陥を検査できる「SiCウエハー欠陥検査・レビュー装置SICA88シリーズ」を2015年9月の発売から1年間で10台納入した。
【横浜】レーザーテックは、薄型ディスプレー(FPD)生産で使用するフォトマスクの位相差や透過率を高精度に測定できる装置「MPM365gh=写真」を発売した。
