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記事検索結果
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【松山技研/高機能部品向けPVD薄膜技術】 松山技研(長野県上田市)は、金型や特殊工具、機能部品を対象に物理気相成長(PVD...
【日本電子/低ダメージ成膜の新型蒸着源】 日本電子は高機能光学薄膜の成膜に最適な電子銃・電源、ボンバード蒸着源、プラズマソースを出展する。
量子ドットをさらに高機能化する研究や、今回の受賞とは異なる半導体薄膜成長技術による量子ドットの製造方法においても日本の研究者が貢献している。
同系強誘電体は薄膜でも十分な強誘電性を持ち、高密度の集積が可能なことから大容量強誘電体メモリーの材料として有望だ。
ベンゾキノン水溶液に有機半導体薄膜を漬けると、薄膜から電子が引き抜かれて溶液中のプロトンと合わさってベンゾキノンと反応する。
ダイヤフラムは薄膜のため射出成形ができず、ロボット導入前は金型の出し入れや位置決め、時間管理を職人が手作業で行っていた。
太陽電池の発電性能でなく、薄膜の光吸収やマイクロ波伝導度など計測しやすい物性値で評価する。... セシウム・ビスマス・アンチモン・ヨウ素系の薄膜を高速評価する。... 薄膜試料のストックと測定装置の間...
【シンクロン/ALD法など高難度成膜技術】 シンクロン(横浜市西区)は、蒸着とスパッタの両方式の進化に技術力で貢献し、真空薄膜の可能性を広げてきた。現在は未...
銅基板とも直接接合でき、薄膜チップや特殊形状のチップにも対応する。
酸化インジウムスズ(ITO)ナノ粒子をシリコーンのポリジメチルシロキサン(PDMS)シート上に塗布して薄膜を作る。
有機ELディスプレーや薄膜太陽電池などの製造装置メーカーであるトッキ(現キヤノントッキ)を07年に買収して以降、M&A戦略を加速。
これを用いてシリコンを添加した590ナノメートル(ナノは10億分の1)厚のα型酸化アルミニウムの薄膜に30ボルトの電圧をかけ、1ミリアンペアを導電した。
チタン系コーティングを得意とし、摺動(しゅうどう)性と密着性を改良した薄膜技術を装置部品や高機能部品(写真)に取り入れる。
また同フィルムは、酸化インジウムスズ(ITO)などの導電性金属酸化物を高密度で均一に薄膜形成した従来の透明導電フィルムに比べて、高い耐久性や曲げ性を持つ。 ... D...
従来、r―GeO2は成膜時に蒸発するため、霧(ミスト)状の溶液を使い薄膜を形成する「ミストCVD(化学気相成長)」法でも低結晶領域が混入し、うまくエピタキシャル成長させ...