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記事検索結果
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中でも半導体の露光工程では、極端紫外線(EUV)の導入が拡大すると見ており、関連材料は伸長するだろう」 ―マーケティングの強化を重点課題に掲げています。 &#...
同時に現行スパコンの高度化のために、次世代シリコン半導体や極端紫外線(EUV)リソグラフィー光源などの技術を開発する。
溶剤以外でも能力増強や、最先端のEUV(極端紫外線)レジストポリマーの開発など、市場拡大に対応した事業強化を進めている。
同工場では次世代半導体の製造に不可欠とされる極端紫外線(EUV)露光に対応した製品を含む各種フォトレジストや、同じく半導体の製造に欠かせない高純度化学薬品を生産する。
ArF(フッ化アルゴン)レジスト用モノマーは世界シェア首位でEUV(極端紫外線)レジストにもモノマーを供給。
同社は半導体フォトマスク欠陥検査装置の大手メーカーだが、特に最先端分野であるEUV(極端紫外線:Extreme Ultraviolet)用フォトマスク向けでは独占的なポ...
現在半導体大手は極端紫外線(EUV)露光を用いて線幅2ナノメートル(ナノは10億分の1)の実現を目指している。
ASML、EUV供給を独占 「ムーアの法則は、今後10年以降も続いていく見通しで、それを中心的に支えるのが最先端のEUV露光装置だ」―。... ASMLが供給を独占するEU...
最先端のEUV(極端紫外線)技術を使った露光装置向けマスクの検査装置用光学系部品の販売も伸びており、25年度までに生産能力を現在の2倍程度に引き上げることを検討する。
最先端のEUV(極端紫外線)対応の露光装置の開発から撤退したため、最近の半導体スーパーサイクルの恩恵も受けていない。 ... 精機事業でもEUVを含む幅広い半導体製造...
極端紫外線(EUV)関連装置の増産対応、細胞受託生産関連などで設備投資を行うほか、材料加工やヘルスケア領域などでM&A(合併・買収)も計画する。 ...
成長のEUV関連伸ばす ―2022年度の世界経済の見通しは。 ... 部材供給の制限は受けるものの、計画通り出せている」 &#...
現在最先端の半導体製造には「極端紫外線(EUV)露光」装置が使われているが、同社は同装置の開発からは撤退している。
(ASMLが供給を独占する)極端紫外線(EUV)の導入が進んでいるが、3次元NAND型フラッシュメモリーや相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーは今...
EUVの開発は今後も継続する。... 当社の製品構成では、EUVが約半分を占めている。ただ、日本は基本的にEUVの市場とはまだ言えない」 *取材はオンラインで実施。
需要が増加するArF(フッ化アルゴン)レジストやEUV(極端紫外線)レジスト向けの新規材料の研究開発を推進し、高品質化の要望に対応する。
エレクトロニクス分野では、最先端半導体製造プロセス向け部材のEUVマスクブランクスで25年度に売上高400億円以上(現在百数十億円)を目指す。
EUVマスクブランクスは低膨張ガラス基板に複数種類のコーティングを施した部材。... 露光装置内でフォトマスクにEUVを反射させ、回路をウエハーに転写する。EUVマスクブランクスには、非常に小さな欠陥...
