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記事検索結果
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AGCは28日、光源に波長13・5ナノメートル(ナノは10億分の1)の極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けのフォトマスク材の生産能力を、2020年に現在比約3倍に増...
【凸版印刷・黒部隆取締役執行役員】半導体製造装置の取引制限などで中国の半導体工場の立ち上がりに遅れが出た場合、半導体製造に使うフォトマスクの納入時期がずれ込むかもしれない。
【福井】信越化学工業は11日、武生工場(福井県越前市)にあるフォトマスクブランクスの工場棟を増設すると発表した。... フォトマスクブランクスは回路を半導体ウエハーに転写する際の原版で...
(福沢尚季) フォトマスクは、回路をシリコンウエハーに転写する際の原版。... 米中貿易摩擦の影響について、二ノ宮執行役員は「(フォトマスクの生産に使う...
ブラウン管カラーテレビの部材「シャドーマスク」や半導体製造工程で回路をシリコンウエハーに転写する際の原版「フォトマスク」なども開発してきた。
旺盛な需要に対応するため、半導体製造に使用する部材「フォトマスク」の生産体制を強化する。
半導体製造装置とともに、フォトマスクの需要も増している。 フォトマスクは、回路をシリコンウエハーに転写する際の原版。... 18年度中に、同14ナノメートルの最先端のフォトマスクの生...
フォトマスクは、回路をシリコンウエハーに転写する際の原版。... フォトマスクの製造装置の稼働状況などをIoTセンサーで取得する。... 19年春にもフォトマスクの量産を始める計画だ。 ...
(福沢尚季) ■故障の予知保全・機能改善 大日本印刷は回路を半導体ウエハーに転写する際の原版「フォトマスク」の生産現場でAIの活用を2018年から本...
同社は、回路をシリコンウエハーに転写する際の原版(フォトマスク)の製造に使う「電子ビームマスク描画装置」やフォトマスクの検査装置、シリコンウエハー上に薄い膜を作る「エピタキシャル成長装...
■執行役員事業開発・研究本部総合研究所長 菊地保貴氏 【横顔】入社以来、半導体用フォトマスクの開発に従事。フォトマスクの共同開発事業でプロジェクトリーダーを歴任し、事業の拡大...
露光用フォトマスクも内製化するほか、ライフルスコープ向けガラス目盛り(光学レクチル)の量産なども手がける。 ...
ニューフレアテクノロジーと芝浦メカトロニクスが協力するのは電子ビームマスク描画装置の開発。同装置は回路を半導体ウエハーに転写する際の原版「フォトマスク」の製造に使われる。
19年3月期は成長市場の中国で半導体の製造に使うフォトマスクの生産体制を強化する。... 18年度は有機エレクトロ・ルミネッセンス(EL)ディスプレーの製造に使うメタルマスクの生産能力...
同様に、半導体露光装置は「フォトマスク」に描かれた電子回路のパターンを半導体ウエハーに焼き付けて半導体を製造する。 ... 例えばフォトマスクの電子回路パターンを縮小し、1枚の半導体...
フォトマスク(回路原版)に換えて大規模電子ビームを使い、12インチウエハーに回路を直接描画するICチップの開発に協力する。... フォトマスクは回路の微細化を背景に、コストが高まってい...
