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沸騰・半導体市場素材各社の戦略(4)三井化、2本柱で事業拡大（2021/6/17 素材・医療・ヘルスケア）

従来の露光方法向け製品は複数社が供給しているが、最先端の超微細回路を実現するEUV(極端紫外線)露光向けは三井化学が唯一の“正規品”サプライヤーとなった。

沸騰・半導体市場素材各社の戦略(3)AGC、半導体関連を2倍超（2021/6/15 素材・医療・ヘルスケア）

最先端の極端紫外線(EUV)を用いた半導体製造プロセス向けで、ウエハーに回路図を焼き付ける時の原版(フォトマスク)の母材市場に新規参入。

EUV露光、拡大に期待蘭ASMLがペリクル開発、微細化に道（2021/6/10 総合３）

半導体回路の微細化に欠かせない「極端紫外線(EUV)露光」への期待感が高まっている。

東京エレクトロン、蘭研究所に塗布現像装置を導入（2021/6/9 総合４）

同研究所は、回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)以下を目指す蘭ASMLの極端紫外線(EUV)露光装置を2023年に稼働予定。

EUV半導体材料の需要拡大素材各社、回路微細化で商機（2021/6/7 素材・医療・ヘルスケア）

AGC、フォトマスク母材拡販/三井化、保護膜“正規品”生産極端紫外線(EUV)露光プロセス向け半導体材料・部材の需要が拡大してきた。

三井化学、防塵カバーを商業生産 EUV露光プロセス向け（2021/6/1 素材・医療・ヘルスケア）

三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。

中型放射光施設「ニュースバル」兵庫県大、入射器の整備完了（2021/4/30 西日本）

より柔軟な運転スケジュールを計画できるようになるため、国内外の企業などでの研究が加速されそうだ(姫路・岩崎左恵) 大型放射光施設のスプリング8が硬X線の超高輝度放射光...

インタビュー/東洋合成工業社長・木村有仁氏半導体供給支える（2021/4/26 素材・医療・ヘルスケア）

半導体の最先端製造プロセスであるEUV(極端紫外線)向け需要は足元で加速している。

深層断面/インテル、盟主の輝き再び（2021/3/29 深層断面）

先端半導体の生産に欠かせない「極端紫外線(EUV)露光」の周辺工程でも、日本の装置メーカーの存在感は大きい。

JSR、コア営業益600億円新中計、半導体材料など強化（2021/3/29 素材・医療・ヘルスケア）

半導体材料事業については極端紫外線(EUV)、液浸フッ化アルゴン(ArF)向けリソグラフィー材料を四日市工場(三重県四日市市)で増産。

住友化学、液浸ArF・EUV向けフォトレジスト増産大阪で設備増設（2021/2/9 素材・医療・ヘルスケア）

同設備では、液浸フッ化アルゴン(ArF)や極端紫外線(EUV)プロセス向けレジストを生産する。

経営ひと言/大阪有機化学工業・本田宗一取締役執行役員「順調です」（2021/1/22 素材・医療・ヘルスケア）

極端紫外線(EUV)露光用レジスト原料の事業が成長し始めた。

展望2021/富士フイルムHD社長・助野健児氏ヘルス・高機能材を軸に（2021/1/11 素材・医療・ヘルスケア）

先端半導体向けに、極端紫外線(EUV)に対応できる品質評価体制を設けた。

日本、EUV関連で存在感先端半導体に不可欠（2021/1/7 総合３）

■微細化追求見極め重要半導体回路の微細化で欠かせない「極端紫外線(EUV)露光」の周辺工程で、日本の装置メーカーの存在感が増している。... 従来EUV露...

富士フ、24年にEUVレジストのシェア10%へ（2021/1/5 素材・医療・ヘルスケア）

富士フイルムは、極端紫外線(EUV)レジスト事業を本格的に立ち上げ、2024年までに世界シェア10%を目指す。

ウシオ電、DI露光装置40%増新潟で生産体制整備（2020/12/24 電機・電子部品・情報・通信）

全自動ダイレクトイメージング(DI)露光装置の生産能力を従来比40%増にするほか、敷地内に新工場を建設してマスク検査用極端紫外線(EUV)光源部品の生産体制を構...

活況!半導体製造装置(5)キヤノン常務執行役員・武石洋明氏（2020/12/9 電機・電子部品・情報・通信１）

(微細化で優れる極端紫外線〈EUV〉露光装置が注目を集めるが)必ずしもEUVで製造した最先端の半導体だけが市場で求められているわけではない。

活況!半導体製造装置(1)東京エレクトロン社長・河合利樹氏（2020/12/3 電機・電子部品・情報・通信１）

一方、コータ・デベロッパ(塗布現像装置)は極端紫外線(EUV)に対応した装置が必要となるなど、付加価値が高まっている」 ―米中貿易摩擦がもたらす影響を...

化学各社、半導体材料を増産投資 5GでEUVレジスト好調（2020/11/6 総合１）

直江津工場に加え台湾でも、5G普及などで需要拡大が見込まれる極端紫外線(EUV)レジストの生産を始める。

ニュース拡大鏡/住化、5G関連素材の事業化を加速（2020/10/26 素材・医療・ヘルスケア）

極端紫外線(EUV)露光対応フォトレジストの生産を開始したほか、数年内にも5Gアンテナ一体型のディスプレー用フィルムを発売する。

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