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記事検索結果
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フォトマスクを使用しない「マスクレス露光」なので、マスク発注コストがなくなり、設計の微修正がしやすいなどのメリットがある。... 「マスクレス技術と我々のモノづくり技術が一体になれば、これからも伸びる...
だが70年代後半には、ガラス基板上に感光剤(レジスト)を塗布し、フォトマスクを使って現像やエッチングをする「フォトリソグラフィー方式」に移る。... そのため、マスクとガラス基板を非接...
特に半導体のフォトマスク製造などは好調で、トップクラスのシェアがある。今後も次世代半導体のフォトマスクは小型化するため、微細加工の強みが生かせるだろう。
素材を切断・研削したガラス部材は半導体製造の治具や液晶・有機EL用フォトマスク(回路原版)基板、光学部品、医療機器部品などに使われている。
大日本印刷(DNP)は約26万本の電子光線で半導体のフォトマスクを描画する「マルチ電子ビームフォトマスク製造装置=写真」を上福岡工場(埼玉県ふじみ野市)に導入し...
フォトマスクはガラスなど透明な素材でできたパターン原版。... DICはフォトマスク市場が2020年まで、世界で年率2―3%ずつ成長すると想定。高品質なフォトマスクを安定供給できる体制を整える...
【和歌山】太洋工業は微細金属加工部品や同加工によるフォトマスク向けに、外観検査装置「TY―VISION M107SC=写真」を発売した。... これまで外観検査装置の主な対象としてきた...
フォトマスクメーカーや半導体業界向けに提案する。... FPD製造においてフォトマスクは高精細化の重要な役割を持つ。最近はフォトマスク上にハーフトーン膜を用いることで、位相を反転させて転写する微細化技...
マスクブランクスはフォトマスク作成用のガラス基板材料で、同装置は目視では判別が難しい基板上の傷や突起などの欠陥を検査する。... そのため大型フォトマスクのパターンの微細化が急速に進み、検査工程を含む...
直接描画装置はフィルムやガラスの「フォトマスク」と呼ばれるパターン原版を使用しないのが大きな特徴だ。
アルバック成膜は半導体や液晶表示装置(LCD)向けのフォトマスク生成用ネガフィルム「マスクブランクス」の製造が主体。
本社工場敷地内に、半導体関連の各種マスクを製造する「テクノセンター」がある。... テクノセンターでは精度が高いガラスマスク、汎用性が高いスクリーンマスクを手がける。設計から製造まで一貫して請け負う強...
信越化学工業はフォトレジストやフォトマスク材料の生産増強に約200億円を投じ、15年度の設備投資額が約1400億円と7年ぶりの高水準になった。
露光時に使用するX線フォトマスクの製造技術を確立した1999年にはドイツ・カールスルーエ原子核研究所と共同研究を開始したほか、03年には栃木県の「フロンティア企業」、06年には経済産業省の「元気なモノ...
信越化学工業は18日、福井県越前市に半導体製造工程で使うフォトマスクブランクスの工場を新設すると発表した。... フォトマスクブランクスはシリコンウエハー上に回路を描画する際に回路の原版に使うフォトマ...
