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「フォトレジスト用ポリマーの生産能力は順次増強を実施しており、次は極端紫外線(EUV)を含む最先端技術向けの同ポリマーを増強する方向で検討している。
AGCは27日、半導体の生産工程で用いる消耗部材の極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクス(写真)の生産能力を現状の2倍程度に引き上げると発表した。
2019年には最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥検査装置(写真)を開発。
大日本印刷は10日、5ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の半導体製造に対応した極端紫外線(EUV)リソグラフィ技術向けのフォトマスクの製造技術を開発したと発表した。
半導体製造装置分野では、紫外線で効率的に微細な加工をする極端紫外線(EUV)露光装置が話題を集める。
住友化学は22日、最先端の半導体製造プロセスである極端紫外線(EUV)露光向けフォトレジストの開発・評価体制を強化すると発表した。
レーザーテックは最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高感度に検出するEUV欠陥検査装置ACTIS「A150」を製品化した。
高さ60キロメートル以上の上空の大気は、太陽からの極端紫外線などによってその一部が電離され、イオンと電子からなるプラズマとなっている。
【レーザーテック/アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS「A150」】 最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マ...
極端紫外線(EUV)露光技術で微細な半導体を生産するメーカーの採用を見込む。
フッ化アルゴン(ArF)用や極端紫外線(EUV)用のレジスト材料を、半導体レジストメーカー向けに供給する。
EUV(極端紫外線)レジストの韓国向け輸出管理強化の影響は「半導体関連の売り上げに占める比率は小さく、影響は小さい」(宮崎秀樹取締役常務執行役員)とした。 ...