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レーザーテックは最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高感度に検出するEUV欠陥検査装置ACTIS「A150」を製品化した。 ....
【設備補完強み】 極端紫外線(EUV)露光技術で微細な半導体を生産するメーカーの採用を見込む。 EUV露光技術は7ナノおよび5ナノメートル世代の半導...
【レーザーテック/アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS「A150」】 最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マ...
極端紫外線(EUV)露光技術で微細な半導体を生産するメーカーの採用を見込む。 ... EUV露光技術は7ナノおよび5ナノメートル世代の半導体デバイスの量産で活用されて...
フッ化アルゴン(ArF)用や極端紫外線(EUV)用のレジスト材料を、半導体レジストメーカー向けに供給する。... EUV用材料の生産に対応するため、金属不純物の混入を極...
EUV(極端紫外線)レジストの韓国向け輸出管理強化の影響は「半導体関連の売り上げに占める比率は小さく、影響は小さい」(宮崎秀樹取締役常務執行役員)とした。 &#...
【横浜】レーザーテックは、半導体加工技術の極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高い感度で検出するEUV欠陥検査装置「ACTIS A150=写真」を製品化した...
生産品目のEUV(極端紫外線)用フォトレジストが対韓輸出規制強化の対象となるなど、環境は変化している。
極端紫外線(EUV)光源など最先端プロセス向けの材料で、本格的な量産に至っておらず、そもそも韓国の半導体メーカーへの影響は少ないとみられる。
つくば工場(茨城県筑西市)に10億円投じ、新棟を増設し、車載用半導体などEUV(極端紫外線)向けターゲット材を増強する。 ... 19年中に着工、20...
EUV露光は10ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の回路線幅を加工できる最先端技術で、量産は世界で始まったばかり。韓国サムスン電子は7ナノメートルと5ナノメートルのプロセス開発を完...
例えば今回対象となるレジストは、極端紫外線(EUV)光源や電子線(EB)を露光手段に用いた製造工程向けの製品。... 半導体用レジスト大手のJSRはベルギーでEUVレジ...
化学各社は最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光工程向け素材の供給体制を整備する。... EUV露光を使った半導体の生産も始まっており、EUV材料市場...
三井化学は最先端の半導体微細加工技術である極端紫外(EUV)露光工程向け部材のライセンス契約を蘭ASMLとの間で結んだ。ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カ...
