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東芝、エピウエハー内製化 SiCパワー半導体「垂直統合」にカジ（2022/3/15 総合１）

強みの半導体製造装置技術を生かし、2025年度までに自社でウエハー基板上に成膜できる体制を整える。... そこで生きるのが、傘下のニューフレアテクノロジー(横浜市磯子区)が手がけるエピ...

ニューフレアテクノロジー、エピクエストと提携半導体装置で協業（2018/11/7 電機・電子部品・情報・通信２）

ニューフレアテクノロジーは、パワー半導体の製造に使う「エピタキシャル成長装置」の開発や設計、製造に関して、同装置の開発などを手がけるエピクエスト(京都市南区)と資本業務提携を結んだ。....

スーパーサイクルに挑む―半導体部材・装置各社(7)ニューフレアテクノロジー（2018/6/8 電機・電子部品・情報・通信２）

旺盛な需要に対応するには、装置の生産に必要な部品の確保が欠かせない。... 同社は、回路をシリコンウエハーに転写する際の原版(フォトマスク)の製造に使う「電子ビームマスク描画装置」やフ...

ニューフレアテクノロジー・杉本茂樹社長に聞く「研究費増やし微細化対応」（2017/12/25 電機・電子部品・情報・通信）

東芝傘下の半導体製造装置メーカー、ニューフレアテクノロジーが攻勢に出る。主力のフォトマスク描画装置では次世代機の開発を強化するほか、検査装置など新規事業の創出も加速する。... 炭化ケイ素(S...

エア・ウォーター、窒化ガリウム半導体向けSiC下地基板開発（2013/1/16）

SiC下地基板は、シリコン(Si)基板上に3マイクロメートル(マイクロは100万分の1)程度の立方晶(3C)系SiC層をエピタキシャル成長法という結晶成...

【横浜】ニューフレアテクノロジーは高効率で結晶を成長させられるエピタキシャル成長装置「HT2000F」をトヨタ自動車に納入した。トヨタは研究開発用設備として同装置を導入。... 納入した装置は直径20...

【横浜】ニューフレアテクノロジーは28日、直径200ミリメートルのウエハー上に150マイクロメートル(マイクロは100万分の1)以上の厚みで結晶を成長できるエピタキシャル成長装置「HT...

三菱電、来年度に高周波・光デバイスの生産能力を2割増強（2008/2/29）

光伝送装置や携帯電話用の電力増幅モジュール、記録型DVD用の赤色半導体レーザーダイオードなどの需要増加に対応するのが狙い。... 高周波デバイスと光デバイスを製造している高周波光デバイス製作所のクリー...