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自動車向け視野に品種拡充 日本ゼオンは、CPU(中央演算処理装置)など半導体デバイスの熱伝導性を高めるシート系放熱材料「TIM」や、フォトマスクに回路パターンを形成する電子線レジスト...

AGCはEUV向けでフォトマスク用母材(ブランクス)に新規参入した。

最先端半導体製造用のフォトマスク保護膜「EUVペリクル」や半導体製造工程用テープ「イクロステープ」を展開し、中期的にICT分野で売上高1000億円規模を目指している。

欧州の半導体メーカー向けにフォトマスク(回路原版)を製造・販売する、大日本印刷の伊子会社。... フォトマスクを扱う人材として同社初のシンガポール駐在を経験。

開発費増、共創・協業で対応 半導体業界の活況を受け、総合印刷会社の半導体用フォトマスク(回路の原版)事業にも追い風が吹いている。... QYリサーチがまとめた調査リポートによると、世...

ポリマー関連技術で新領域開拓 三井化学は、半導体製造工程で主要部材のフォトマスクを保護する膜製品「ペリクル」と半導体製造工程用テープ「イクロステープ」を2本柱に、半導体材料事業を拡大...

最先端の極端紫外線(EUV)を用いた半導体製造プロセス向けで、ウエハーに回路図を焼き付ける時の原版(フォトマスク)の母材市場に新規参入。... 顧客がブランクス上に回路図を形成し、フォトマスクとなる。...

(張谷京子) ペリクルはフォトマスク(半導体回路の原版)の表面に装着する薄い保護膜。傷やホコリを付きにくくし、フォトマスクの検査・交換頻度を抑制する。... 例えば、レーザーテックは...

AGC、フォトマスク母材拡販/三井化、保護膜“正規品”生産 極端紫外線(EUV)露光プロセス向け半導体材料・部材の需要が拡大してきた。AGCは、EUV用から回路をウエハーに焼き付ける...

三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。

THKの高精度位置決めが可能なLMガイドは、ウエハーを切断するダイシングやチップとフレームを結ぶワイヤボンディングなどの後工程だけでなく、フォトマスク作製、インゴットの引き抜き、パターン形成などの前工...

レーザーテックは、光源にEUVを使ったEUV露光用フォトマスク(半導体回路の原版)の欠陥検査装置で、シェア100%だ。

400ミリメートル四方のフォトマスク原板を作成できる。

特に需要が高まっているのが、光源にEUVを使ったEUV露光用フォトマスク(半導体回路の原版)の欠陥検査装置で、同社が100%のシェアを持つ。従来EUV露光用マスクの検査では、主に光源に深紫外線(DUV...

半導体用フォトマスクの欠陥検査の手作業を省き、検査時間を短縮する。... また、手作業によるフォトマスクの汚染も防止できる。 ... また、フォトマスクの生産現場では工程ごとに検査を...

エヌエフ回路設計、電流増幅器を投入 微小信号を高精度検出 (2020/10/6 電機・電子部品・情報・通信2)

【横浜】エヌエフ回路設計ブロックは、フォトダイオード(PD)や光電子増倍管(PMT)など微小電流出力センサーからの信号を高精度に検出するプログラマブル電流増幅器「CA5351」を発売した。... 放射...

AGCは27日、半導体の生産工程で用いる消耗部材の極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクス(写真)の生産能力を現状の2倍程度に引き上げると発表した。... EUVマスクブランクスの表面に半導体...

フォトマスク専業メーカーとしては5ナノメートル世代で初めての製造技術で量産体制を整えた。国内外のメーカーへのフォトマスク提供や、周辺技術の開発の支援で2023年に年間60億円の売り上げを目指す。...

第62回十大新製品賞/日本力賞 レーザーテック (2020/2/20 電機・電子部品・情報・通信1)

回路パターンを描いたフォトマスクのわずかなキズや汚れ、歪みなどは大量の不良品を生む。... だが、開発メンバーを率いた宮井博基技術五部長は「フォトマスクになると難易度が全く違う。... フォトマスク上...

DIC、フォトマスク開発 静電気の放電破壊防止 (2020/1/27 素材・医療・ヘルスケア)

DICと子会社のトピック(埼玉県川口市)は静電気による放電破壊を防止するフォトマスクを開発した。クロムマスクに特殊コーティングを施した。... フォトマスクの遮光層に金属クロムが使われている場合、使用...

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