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ペリクルはフォトマスク(半導体回路原版)の表面に装着する薄い防塵膜で、半導体製造の前工程である露光の生産性を高められる。
また、大規模フォトマスクデータブラウザー『HOTSCOPE』の中国など海外市場への売り込みを強化する。
フォトマスクは両社ともに通期で好調と見ているが、TOPPANホールディングス(HD)は「半導体パッケージ基板の『FC―BGA』が24年前半は厳しい」(黒部隆取締役常務執行役員&...
パワー系やフォトマスク、表面弾性波(SAW)フィルターなど成長が見込め、日本が強みを発揮できる分野に積極投資し事業ポートフォリオを組み替えることが、賃上げ原資確保において極めて重要にな...
大日本印刷(DNP)は27日、極端紫外線(EUV)リソグラフィーに対応した2ナノメートル(ナノは10億分の1)世代のロジック半導体向けフォトマスク...
回路パターンを描いたフォトマスクのわずかなキズや汚れ、歪みなどの欠陥は大量の不良品を生んでしまう。URASHIMAはパターン付きマスクの検査を露光光源と同じEUVで行う同社の検査装置「ACTISシリー...
米IBMの最先端半導体研究開発拠点であるアルバニー・ナノテク・コンプレックス(ニューヨーク州)とトッパンフォトマスクの朝霞工場(埼玉県新座市)でフォトマスクを共同開発す...
対象顧客は、光学ブレッドボード、ウエハー検査装置、フォトマスク検査装置といった精密機器のメーカーなど。
「(フォトマスク事業の売り上げの)大きな割合を占める中国を中心としたスマートフォン関連のハイエンドのフォトマスクが、スマホの売れ行きが低調で(2023年は)前年より下が...
「前工程で強いのはフォトマスクカバーのペリクルや、半導体向けガスだ。
リンテックは極端紫外線(EUV)露光装置向けに、フォトマスク(半導体回路の原版)の防塵カバー「ペリクル」を開発した。... ペリクルは微細パターンが...
ガラス基板にも対応 ウシオ電機は半導体製造装置最大手の米アプライドマテリアルズと共同で、フォトマスク(半導体回路の原版)を必要としないデジタルリソグラフィー技術...
25年の竣工を目指し、前倒しで計画を進める」 ―フォトマスク(半導体回路の原版)向け洗浄装置の新製品を24年に発売予定です。
ペリクルはフォトマスク(半導体回路の原版)の表面に装着する薄い保護膜。傷やホコリを付きにくくする機能があり、フォトマスクの検査・交換頻度を抑制し露光工程の生産性を向上できる。 ...
大日本印刷(DNP)は3ナノメートル相当のフォトマスク製造プロセスを開発した。... 「(同半導体の)量産までフォトマスクは必要。... フォトマスクメーカーはコスト競...
TOPPAN(東京都文京区、斉藤昌典社長)は、半導体パッケージ基板のFC―BGAや、半導体回路の原板のフォトマスクを手がける。... 「米IBM(の開発向け)に回路線幅...
同装置は、露光工程で使うレチクルやマスクといった回路を描いた原版のパターン面やその裏側のガラス面、パターン表面の保護膜(ペリクル)面に、品質不良の原因となる極微小な異物が付着していない...
列真(東京都品川区、張東勝社長)は、半導体製造で回路を転写するフォトマスクを作成するガラス基板材料のマスクブランクスの検査装置生産を強化するため、長野県小諸市に新工...
