同装置では露光装置に使われる光源を外部調達したが、照明を検査範囲に絞り込みにくく、マスク表面に装着するペリクル(防塵保護膜)への入熱負荷が大きくなる問題もあった。

「前工程で強いのはフォトマスクカバーのペリクルや、半導体向けガスだ。特にペリクルは7月に事業を譲り受け、設立した三井化学EMS(宮崎県延岡市)で順調に統合作業が進んでいる。... 当社...

リンテックは極端紫外線(EUV)露光装置向けに、フォトマスク(半導体回路の原版)の防塵カバー「ペリクル」を開発した。... リンテックは半導体回路パ...

旭化成のペリクル事業を承継した新会社の技術力などを活用。... 得意とする半導体前工程のEUVペリクルだけでなく、深紫外線(DUV)を光源とした露光工程で使用されるDUVペリクルを生産...

同装置は、露光工程で使うレチクルやマスクといった回路を描いた原版のパターン面やその裏側のガラス面、パターン表面の保護膜(ペリクル)面に、品質不良の原因となる極微小な異物が付着していない...

露光装置に使われる光源であるため照明を検査範囲に絞り込みにくく、マスク表面に装着するペリクル(防塵保護膜)への入熱負荷が大きくなる問題もあった。

三井化学は旭化成からフォトマスク用防塵カバーのペリクル事業を取得し、設立した三井化学EMS(宮崎県延岡市)の営業を開始した。... 三井化学EMSを設立することで三...

半導体関連では、旭化成のペリクル事業を取得し、7月に予定する三井化学EMSの設立によって事業基盤の強化につなげる。

FPD用ペリクルで世界トップクラスの旭化成の事業を買収し、同事業を強化する狙い。... 三井化学のペリクル製造拠点は2拠点となる。... 三井化学はペリクルを含むICTソリューション事業拡大を目指す。

「フォトマスク保護膜『ペリクル』ありEUV用フォトマスクの欠陥検査装置の開発と実用化が進み、売り上げが大きく伸びた。

最先端の半導体プロセスに使うEUVペリクルやイクロステープの更なる設備増強も検討する。

三井化学はICT分野の強化のため、複数部署に分散しているイクロスやフォトマスク用防塵カバー「ペリクル」、光学樹脂「アペル」などのICT関連製品を集めて22年4月にICTソリューション事業本部と研究セン...

「最先端半導体の製造工程部材『EUVペリクル』の商業生産が始まるなど、目標の売上高1000億円へ順調だ。

最先端半導体製造用のフォトマスク保護膜「EUVペリクル」や半導体製造工程用テープ「イクロステープ」を展開し、中期的にICT分野で売上高1000億円規模を目指している。

透過率が低いと露光時間が長くなるためか、現在はEUV露光時にペリクルを使わない場合もある。材料や品質管理の工夫で透過率を高めれば、ペリクルの利用が増え、半導体の歩留まり改善や生産拡大につながり、またペ...

ASMLは双方を両立したEUVペリクルを開発。... ペリクルを使用した場合、透過率はペリクルなしの時と比べると低くなり、露光に時間がかかる可能性がある。和田木哲哉野村証券リサーチアナリストはリポート...

三井化学はEUV露光機を生産する蘭ASMLから技術供与を受け、同社から生産移管する形でフォトマスク保護膜「EUVペリクル」の商業生産を始めた。... また透過率90%を目指し、EUVペリクルの...

同社は1984年にペリクルを発売した主要メーカー。ペリクルで培った異物管理などの生産ノウハウをEUVペリクルにも生かしている。今後、EUV露光装置の進化に合わせて、ASMLと協力し、EUVペリクルの技...

また、EUV露光用マスクでも歩留まりを高める防塵カバー(ペリクル)の開発が進められており、ポリシリコン製で実用化される見通し。従来装置のDUV光はポリシリコンを透過せず検査できないが、...

三井化学は蘭ASMLとの間でEUV露光用フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」のライセンス契約を結んだ。ASMLはEUV露光装置とEUV用ペリクルを開発した唯一の企業で、同社の開発した技術をもとに三井化...