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半導体材料分野を中心にさまざまな機会を探る」 ―M&Aでは原料を含めリソグラフィーなど得意な領域を深耕するのか、他領域も視野に入るのでしょうか。
搭載するモジュールの小型化に対応するため、写真製版技術(フォトリソグラフィー技術)による加工で縦2・0ミリ×横1・6ミリ×高さ0・7ミリメートルと業界最小クラスを実...
大日本印刷(DNP)は27日、極端紫外線(EUV)リソグラフィーに対応した2ナノメートル(ナノは10億分の1)世代のロジック半導体向けフォトマスク...
トッパンフォトマスク(東京都港区、二ノ宮照雄社長)は7日、米IBMと極端紫外線(EUV)リソグラフィーを使用した2ナノメートル(ナノは10億...
半導体の微細化・高集積化が進むとリソグラフィーや洗浄、研磨など前工程のサイクルを何度も繰り返すため材料需要の増加が見込める。
ガラス基板にも対応 ウシオ電機は半導体製造装置最大手の米アプライドマテリアルズと共同で、フォトマスク(半導体回路の原版)を必要としないデジタルリソグラフィー技術...
迫田研究員らは有限要素法による試料設計に基づき、電子線リソグラフィーで厚み0・4マイクロメートル(マイクロは100万分の1)のシリコン薄膜をナノ加工してフォトニック結晶を作製した。&#...
同社は世界最先端の半導体の製造に必要な半導体リソグラフィー(露光)装置のメーカーで、今年は中国からの事業が大きく伸びた。
その製造には、原図の回路パターンをシリコンウエハー上に縮小露光するリソグラフィー技術が利用されている。... 電子回路の微細化に対応するため、リソグラフィーの露光波長の短波長化が進み、現在は波長13・...
フォトレジストの開始剤として使用され、先端ロジック半導体のリソグラフィー工程で使われるEUVフォトレジスト用の製品の生産設備を増設した。
一般的なリソグラフィー露光機では、原図であるマスク上の電子回路パターンを写真の原理を使ってシリコンウエハー上に縮小して焼き付ける。... EUVリソグラフィー技術は、量子科学技術研究開発機構(...
欧州現地法人の工場に投資し、ポリイミドに加え、回路形成に用いる現像液やクリーナーなどのフォトリソグラフィー周辺材料も増産する。
半導体製造などで使うフォトリソグラフィーを応用し、水晶の微細加工技術を研究開発・生産するための最適設計を取り入れた。
JSRはまさにそのリソグラフィー材料での貢献が評価され、台湾積体電路製造(TSMC)が最近発表した22年のサプライヤー表彰に選ばれている。
