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三井化、蘭ASMLと契約 岩国大竹工場に新設備 (2019/6/3 素材・医療・ヘルスケア)

三井化学は最先端の半導体微細加工技術である極端紫外(EUV)露光工程向け部材のライセンス契約を蘭ASMLとの間で結んだ。ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」...

大阪府立産業技術総合研究所の櫻井芳昭研究員と、矢野クローム工業所(大阪市大正区、小佐々明夫代表社員、06・6552・5081)は、軽量で割れにくい透明樹脂であるポリカーボネートに、密着性に優れた無電解...

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