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【名古屋】中部大学の多賀康訓特定教授は13日、シンクロン(横浜市西区、成田正哉社長)と共同で光学特性を満たしつつ曲げ、延伸など変形に耐える可変反射防止膜の成膜技術を開発したと発表した。...

新技術は分子線エピタキシャル成膜法(MBE)や原子層堆積法(ALD)に比べ、電気・光学特性設計のためドーピング量などの制御が可能。... 高知工大が成膜と電気・光学特性...

インプラントへのアパタイト成膜法としては、溶射法などの熱的プロセスが主流である。一方、温和な非熱的プロセスとして、体液に近い無機イオン濃度を有するリン酸カルシウム過飽和溶液を反応場とする成膜法、過飽和...

東芝、ペロブスカイト太陽電池開発 エネルギー変換効率15%達成 (2021/9/10 電機・電子部品・情報・通信)

サイズは世界最大の703平方センチメートルを維持しながら新たな成膜法により現在主流の多結晶シリコン型と同等の変換効率を実現した。... 新たなペロブスカイト層の成膜法はインクと乾燥プロセス、装置を開発...

スパッタ成膜法でグラッシーカーボン(GC)薄膜をガラス基板上に堆積させ、この基板に酸素プラズマを照射して作製する。

【研究開発助成/奨励研究助成 若手研究者(塑性加工)】▽井尻政孝/東京電機大学工学部先端機械工学科「環境に配慮した新しい表面加工法によるCr―Mo鋼の疲労特...

材料へのダメージを減らす従来の成膜法に比べ、成膜速度を2・5倍に向上。実用性に富んだ成膜技術で新ビジネスの創出を目指す。 ... ただプラズマ密度が低い上、成膜速度は遅く、実用性に乏...

電極と固体電解質の接合が強固でないという課題を解決するため、産総研独自のセラミック膜の成膜法であるエアロゾルデポジション(AD)法を用いて、単結晶固体電解質基板に正極を製膜した。

【諏訪】岡谷熱処理工業(長野県岡谷市、西澤邦治社長、0266・23・4610)は、切削工具向けなどに従来より硬度や酸化温度などを大幅に上げたイオンプレーティング(PVD...

PVDによる成膜法の一種であるアークイオンプレーティング方式を用いた新型機。... PVDは切削工具や小物部品などを合金系皮膜で成膜し、性能や寿命を高める手法。

触媒担持膜の性能は垂直配向CNT膜の黒さや均一性を大きく左右するため、触媒担持膜の成膜はCNT黒体の性能を決定づける重要なプロセスである。 スパッタリング法や真空蒸着法などの真空成膜...

従来の真空蒸着法やスパッタリングなどの成膜法に比べて歩留まりが大幅に向上する。... 成膜速度は従来の真空蒸着法が1秒間に4―10オングストローム(1メートルの100億分の1)に比べ、...

塗布型は原料を溶かし込んだ溶液を基板に塗布して発光層を成膜する。真空装置内で蒸発させた原料を基板上に堆積させる蒸着成膜法に比べて生産コストを3分の1以下に抑えた。

三菱化学とパイオニアは2014年に、溶液を基板に塗布して発光層を成膜する独自手法を用いた有機EL照明モジュールの量産を開始。真空装置内で蒸発させた原料を基板上に堆積させる蒸着成膜法に比べて、生産コスト...

成膜速度が1分当たり膜厚200ナノ―400ナノメートル(ナノは10億分の1)と、代表的な成膜技術であるスパッタリングの約20倍。... アルミナの絶縁膜を成膜したところ、膜厚4000ナ...

自社開発の物理気相成長(PVD)膜の成膜加工を手がける。... PVD法はワーク(加工対象物)と膜の材料であるターゲット材との間で、アーク放電を起こして成膜する。......

原料を溶かし込んだ溶液を基板に塗布して発光層を成膜する独自手法を採用。真空装置内で蒸発させた原料を基板上に堆積させる蒸着成膜法に比べて生産コストを最大10分の1に抑えた。

「原料を溶かし込んだ溶液を基板に塗布して成膜する製法だ。真空装置内で蒸発させた原料を基板上に堆積させる従来の蒸着成膜法に比べて原料の利用効率を高められるため、生産コストを10分の1、寿命も約4倍にでき...

三菱化学とパイオニアは25日、原料を溶かし込んだ溶液を基板に塗布して発光層を成膜する独自手法で価格を約1万円以下に抑えた有機エレクトロ・ルミネッセンス(EL)照明のサンプル出荷を月内に...

ロール・ツー・ロール方式は、ロールに巻いた樹脂フィルムなど長尺の被成膜物を送り出して成膜し、その後被印刷物を別のロールで再び巻き取る。... 膜厚や電気特性を成膜しながら計測でき、素早い成膜条件の再設...

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