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極端紫外線(EUV)露光プロセスが適用される最先端ロジック半導体の配線工程で使われる材料を生産する。

微細化、EUV向け先行 【レジスト活況】 世界各地で進む半導体増産計画を前に、化学各社は半導体製造プロセス材料の増産投資を活発化している。調査会社の富士経済(...

EUV半導体材料の需要拡大 素材各社、回路微細化で商機 (2021/6/7 素材・医療・ヘルスケア)

AGC、フォトマスク母材拡販/三井化、保護膜“正規品”生産 極端紫外線(EUV)露光プロセス向け半導体材料・部材の需要が拡大してきた。... 三井化学はEU...

三井化学、防塵カバーを商業生産 EUV露光プロセス向け (2021/6/1 素材・医療・ヘルスケア)

三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。同製品の技術を持つEUV露光装置メーカーの蘭ASML...

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