そこで私たちは、もともと化合物半導体の分野で発展してきた薄膜成長法である「有機金属化学気相成長法」を2次元物質に応用することにした。

ハイドライド気相成長法(HVPE)を生かし、低欠陥が特徴であるレーザー向けの2インチウエハーで25年に向けて現状比4、5割増といった大幅な出荷増を想定。日本製鋼所などと低圧酸性アモノサ...

化学気相成長法(CVD)と比べ低コストでできるのが特徴。... お互いのエチレンプラントを効率的に稼働できる仕組みも重要だ」 【記者の目/高付加価...

化学気相成長法(CVD)を活用し、廃プラの熱分解によって発生した炭化水素ガスを回収し、金属触媒によって複層CNTを作る。 通常のCVD法によるCNT製造では、アセチレ...

従来、r―GeO2は成膜時に蒸発するため、霧(ミスト)状の溶液を使い薄膜を形成する「ミストCVD(化学気相成長)」法でも低結晶領域が混入し、うまくエピタキシャル成長させ...

ガス状態から固体を取り出す気相成長法を使った繊維状AlN製造技術に強みを持つ。

こうした中で競争力を維持し、成長分野へポートフォリオ転換するためには、高付加価値ガラスの開発へのシフトが必要だ。... 英国では水素燃焼などカーボンニュートラル(温室効果ガス排出量実質ゼロ&#...

JCCは海外生産拠点を持たず、物理気相成長(PVD)を用いたセラミックコーティングの受託加工は国内を中心に行ってきた。 IHIイオンボンドはPVD、化学気相成長法&#...

ALDは化学気相成長法(CVD)の一種。... 仏調査会社のヨールグループによるとALD装置市場は年平均12%成長し、2026年に6・8億ドル(約900億円)に...

岡山大学の鈴木弘朗助教と橋本龍季大学院生、林靖彦教授らは、二硫化タングステンの大面積薄型結晶の合成法を開発した。... 従来法の10倍以上大きくなった。... 化学気相成長法では数...

スパッタ法は化学気相成長法(CVD)に比べ装置コスト低減や材料の利用効率向上を図れる。... スパッタ法は成膜に応力を付与でき、大口径シリコン基板に対応できる。CVD法は素材の熱膨張率...

高密度に蒸着可能な複合化合物膜の技術を高速蒸着技術に適用することで、一般的なスパッタ法に比べて成膜速度が100倍超に向上し、コストを5分の1以下に抑えた。成長が見込まれるフレキシブルデバイスや太陽電池...

物質・材料研究機構(NIMS)では、独自に開発した超高真空型ダイヤモンド成長装置を用いて量子デバイス応用のための超高純度ダイヤモンド成長を行ってきた。... 結晶成長法には、ガスを原料...

ダイヤモンドはマイクロ波プラズマを用いた気相成長法により、水素およびメタンを原料ガスとして人工的に結晶成長できる。この成長中に電子の供給源となるリン原子を添加することで、n型半導体(電子を多く...

これらを結晶成長させて太陽電池構造にする成膜コストと、結晶成長の基になるGaAs基板が非常に高価である。 従来の成膜技術に比べ安価な原料が使用可能で、成膜速度が非常に速いため90&#...

エレクトロニクス応用ではグラフェンは化学気相成長法により1000度C程度の高温で銅箔(はく)上に合成し、シリコンウエハーに転写して成膜するが、転写工程で生じる金属や有機物の残渣(...

大陽日酸は三塩化ガリウム―アンモニア反応系を用いたトリハライド気相成長法(THVPE法)を活用し、高速、高品質で連続成長が可能な窒化ガリウム(GaN)結晶製造装置を開発...

【姫路】姫路信用金庫(兵庫県姫路市、三宅知行理事長、079・288・1121)は、2019年度の「ひめしん研究開発支援助成金」の助成企業に、グラフェン成長用減圧熱CVD(化学気...

時田シーブイディーシステムズの成膜加工技術は化学気相成長法(CVD)を用いる。

2方式はイオンビームによるスパッタリング法、ガスをプラズマ中に注入するP―CVD(化学気相成長)法。