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半導体露光大手、差別化を追求 三者三様の開発戦略 （2022/5/5 電機・電子部品・情報・通信）
3次元化ニーズに対応した、フッ化アルゴン(ArF)液浸スキャナー「NSR―S636E」を23年に発売する予定だ。 ... 16年から始めた構造改革以降、Ar...
ニコン、次世代半導体向けArF液浸スキャナーを来年発売 （2008/11/13）
ニコンは12日、回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用した次世代半導体製造用のフッ化アルゴン(ArF)液浸スキャナー「NSR―S620」を09年1...
ニコン、10−12月に32ナノ対応露光装置を出荷 （2008/2/21）
ニコンは20日、08年第4四半期(10―12月)に、半導体チップ上の回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスに対応する液浸露光装置(スキャナー&#...
