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リンテック、耐熱性2倍のフォトマスク用防塵カバー開発（2023/12/20 素材・建設・環境・エネルギー２）

リンテックは極端紫外線(EUV)露光装置向けに、フォトマスク(半導体回路の原版)の防塵カバー「ペリクル」を開発した。

三井化学、ペリクル事業拡大三井化学EMSが営業開始（2023/7/6 素材・建設・環境・エネルギー２）

三井化学は旭化成からフォトマスク用防塵カバーのペリクル事業を取得し、設立した三井化学EMS(宮崎県延岡市)の営業を開始した。

サプライチェーン要衝をゆく台湾編(3)日本人より合理的（2023/3/14 総合１）

半導体ウエハー研削時の表面保護テープやフォトマスク用防塵カバーなど既存製品の営業は近視眼的になりがちで、顧客が1番困っている次世代半導体に必要な材料のマーケティングなどは違った専門性が求められる。

三井化学、顧客との共創拠点を新設 ICT分野、名古屋検討（2021/11/29 素材・医療・ヘルスケア）

三井化学はICT分野の強化のため、複数部署に分散しているイクロスやフォトマスク用防塵カバー「ペリクル」、光学樹脂「アペル」などのICT関連製品を集めて22年4月にICTソリューション事業本部と研究セン...

EUV露光、拡大に期待蘭ASMLがペリクル開発、微細化に道（2021/6/10 総合３）

EUV露光装置を手がける蘭ASMLが、露光工程の歩留まり低下を防止する「ペリクル(防塵カバー)」を量産用途のEUV向けで初めて開発した。

三井化学、防塵カバーを商業生産 EUV露光プロセス向け（2021/6/1 素材・医療・ヘルスケア）

三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。

THK、直動機器用防塵カバー 90m巻き取り式（2021/1/19 機械・ロボット・航空機２）

THKは直動機器の上面を覆う防塵用プレートカバーで、長さ90メートルの巻き取り式タイプの提供を始めた。... 従来は最長5メートルのプレートカバーだったため、レールが5メートルを超えると2本以上のカバ...

EUVでパターン欠陥検出レーザーテック、マスク検査装置を製品化（2019/10/16 電機・電子部品・情報・通信２）

また、EUV露光用マスクでも歩留まりを高める防塵カバー(ペリクル)の開発が進められており、ポリシリコン製で実用化される見通し。

国盛化学/防塵カバー簡単に固定物流向け（2019/8/5 新製品フラッシュ２）

国盛化学は「プラダン」と呼ばれる物流コンテナ向けに、防塵カバーを簡単に固定できる樹脂製品「カバーフック」を発売した。... フック状の部分に防塵カバーの端を差し込み固定する。従来、防塵カバーを固定する...

化学各社、EUV向け素材の供給体制整備（2019/6/27 素材・医療・ヘルスケア）

三井化学は蘭ASMLとの間でEUV露光用フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」のライセンス契約を結んだ。

三井化、蘭ASMLと契約岩国大竹工場に新設備（2019/6/3 素材・医療・ヘルスケア）

ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」を独占的に生産、供給する。

アリスターエナジー、電子部品の静電気除去（2011/7/22）

オプションで防塵カバーを装着できる。

フレーム幅が30ミリ、40ミリメートルの従来品より小型化できるため、小さな電子部品や測定器の安全カバーとして用途拡大を狙う。... カバーなどのオプションもそろえる。電子部品のほか、薬品・食品などの防...