記事検索結果

リンテック、耐熱性2倍のフォトマスク用防塵カバー開発（2023/12/20 素材・建設・環境・エネルギー２）

リンテックは半導体回路パターンの微細化に対応できるEUV露光装置で、開発したペリクルの使用を想定。露光工程の生産性向上に寄与する。 ... EUV露光プロセスではこれまでのフッ化アル...

ADEKA、台湾に新工場先端ロジック半導体向け材料生産（2022/2/18 総合３）

極端紫外線(EUV)露光プロセスが適用される最先端ロジック半導体の配線工程で使われる材料を生産する。

沸騰・半導体市場素材各社の戦略(20)日本ゼオン、耐久性武器に拡販（2021/9/9 素材・医療・ヘルスケア２）

主鎖切断型は同社が開発した方式で、露光プロセスに伴う反応が簡潔。

にっぽん再構築半導体、世界動かす(5)プロセス材料（2021/8/30 総合１）

微細化、EUV向け先行【レジスト活況】世界各地で進む半導体増産計画を前に、化学各社は半導体製造プロセス材料の増産投資を活発化している。調査会社の富士経済(...

沸騰・半導体市場素材各社の戦略(11)群栄化、設備増強に年10億円超（2021/8/3 素材・医療・ヘルスケア２）

【設計合成に強み】 1970年代に半導体の量産が本格化した露光波長436ナノメートル(ナノは10億分の1)のg線レジストから積み上げてきた技術を応用。... 回路など...

EUV半導体材料の需要拡大素材各社、回路微細化で商機（2021/6/7 素材・医療・ヘルスケア）

AGC、フォトマスク母材拡販/三井化、保護膜“正規品”生産極端紫外線(EUV)露光プロセス向け半導体材料・部材の需要が拡大してきた。... 今後も「露光機...

三井化学、防塵カバーを商業生産 EUV露光プロセス向け（2021/6/1 素材・医療・ヘルスケア）

三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。同製品の技術を持つEUV露光装置メーカーの蘭ASML...

半導体製造におけるリソグラフィ(露光)プロセスの開発に従事してきた。... 現在は次世代露光技術の開発にも携わり、日々難題に取り組んでいる。 ... 先端半導体リソグ...

阪大、次世代半導体露光技術でウエハー処理10倍超の技術開発（2013/8/19）

露光プロセスと感光性樹脂(レジスト)をそれぞれ改良した。... 従来のEUV露光プロセスは1回のEUV露光でレジスト中に酸が発生し、反応が進む。... 2回目の光全面露光では、1回目の...

伯東、UV露光装置販売米社と代理店契約（2010/10/20）

月内にもプリント基板の露光プロセスに用いる直接描画方式の紫外線(UV)露光装置「MLI―3000シリーズ」を発売する。... 伯東はこれまで、ガラスマスクスケーリング、フィルムマスクス...

海外技術/米ノースウエスタン大、グラフェンを蛍光物質で観察（2009/12/30）

「蛍光色素消光顕微鏡(FQM)」と名付けた新しい手法では、溶液中のグラフェンを観察できるほか、蛍光物質をフォトレジスト材料に混ぜることで露光プロセス中のグラフェンの画像も得られるという...