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住友化学は、2021年度に半導体材料事業の売上高を18年度比1・5倍強に引き上げる。大阪工場(大阪市此花区)で回路パターンを転写する露光工程用レジスト(感光材)生産設備を拡充し、20年に本格稼働させる...

第62回十大新製品賞/日本力賞 レーザーテック (2020/2/20 電機・電子部品・情報・通信1)

同社は17年、APMIに先行してEUVマスクブランクス(原版)の欠陥をEUV光で検査する「アクティニック・ブランク・インスペクション(ABI)」装置を製品化。... EUVの波長13.5ナノメートルは...

半導体、微細化に挑む 5G・EV進展で (2020/1/13 電機・電子部品・情報・通信)

EUV露光技術は7ナノおよび5ナノメートル世代の半導体デバイスの量産で活用されているが、「回路線幅のバラつきや揺らぎが発生するなどの課題がある」(堀田尚二ナノテクノロジーソリューション事業統括本部事業...

新工場で生産するのは光源に「極端紫外線(EUV)」を用いる最先端のEUVレジスト。

2019年 第62回十大新製品賞 (2020/1/6 十大新製品賞)

【レーザーテック/アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS「A150」】 最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高感度検出する...

EUV露光技術は7ナノおよび5ナノメートル世代の半導体デバイスの量産で活用されているが、回路線幅のバラつきや揺らぎが発生するなどの課題がある。

EUV用材料の生産に対応するため、金属不純物の混入を極限まで減らす装置を導入した。EUV用材料は今後、デバイスの超微細加工で需要増が期待される。

JSRの4―9月期、減収営業減益 エラストマー不振 (2019/10/29 素材・医療・ヘルスケア)

EUV(極端紫外線)レジストの韓国向け輸出管理強化の影響は「半導体関連の売り上げに占める比率は小さく、影響は小さい」(宮崎秀樹取締役常務執行役員)とした。

信越化学の4―9月期、当期最高益 (2019/10/28 素材・医療・ヘルスケア)

EUV(極端紫外線)レジストの韓国向け輸出管理強化の影響は少ないという。

EUV露光による半導体量産に取り組むメーカーに売り込む。 ... DUV光に比べて1ケタ小さい波長13・5ナノメートルのEUV光は圧倒的に高い検出感度を実現し、反射光学系を用いるEU...

生産品目のEUV(極端紫外線)用フォトレジストが対韓輸出規制強化の対象となるなど、環境は変化している。

つくば工場(茨城県筑西市)に10億円投じ、新棟を増設し、車載用半導体などEUV(極端紫外線)向けターゲット材を増強する。 ... 19年中に着工、20年内の稼働を見込み、EUV向けタ...

EUV露光は10ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の回路線幅を加工できる最先端技術で、量産は世界で始まったばかり。韓国サムスン電子は7ナノメートルと5ナノメートルのプロセス開発を完了し、EUV専用...

EUVはナノメートル(ナノは10億分の1)単位の回路線幅を加工する最先端技術で、量産は世界で始まったばかり。 ... 半導体用レジスト大手のJSRはベルギーでEUVレジストを量産して...

化学各社、EUV向け素材の供給体制整備 (2019/6/27 素材・医療・ヘルスケア)

KHネオケムは半導体製造向け高純度溶剤で、EUVに対応し得る管理水準での供給体制を3年内に構築する。EUV露光を使った半導体の生産も始まっており、EUV材料市場が本格化しそうだ。... ASMLはEU...

三井化、蘭ASMLと契約 岩国大竹工場に新設備 (2019/6/3 素材・医療・ヘルスケア)

ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」を独占的に生産、供給する。... 超高速通信の第5世代通信(5G)の実用化に伴い、半導体の微細化ニーズは一層高まり、EU...

JSR、EUV材料拡大 微細化に対応 (2019/5/17 素材・医療・ヘルスケア)

JSRは16日、2020年3月期に極端紫外線(EUV)材料で売上高15億―20億円規模を目指す方針を示した。19年3月期は12億円だった。高性能化、微細化に対応した製品の量産適用を開始し、将来的には「...

展望2019/キヤノン会長兼CEO・御手洗冨士夫氏 (2019/1/17 電機・電子部品・情報・通信1)

『液浸露光』や『EUV(極紫外線)露光』などの技術を使う他社の装置に比べて安価なナノインプリント装置を育てていく」 【記者の目/再成長へ真価問われる】 成長4本柱を...

AGC、露光装置用フォトマスク材増強 生産能力3倍に (2018/11/29 素材・ヘルスケア・環境)

半導体チップの回路パターンの微細化に必要なEUV露光技術の需要拡大に対応する。... 生産能力を増やすのは「EUV露光用フォトマスクブランクス=写真」と呼ばれる部材。... EUV露光技術は「7ナノメ...

同社は長年の研究開発を背景に、EUVフォトレジストでは台湾大手ロジックのEUVプロセスにおいて50%以上のトップシェアを誇り、韓国大手メーカーのEUVプロセス向けでも高いシェアを獲得している。 ...

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