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「最先端半導体の製造工程部材『EUVペリクル』の商業生産が始まるなど、目標の売上高1000億円へ順調だ。

最先端半導体製造用のフォトマスク保護膜「EUVペリクル」や半導体製造工程用テープ「イクロステープ」を展開し、中期的にICT分野で売上高1000億円規模を目指している。

【EUV向け増】 同社はルテニウムを用いた成膜材料「スパッタリングターゲット材」を、半導体ウエハー上に微細回路を形成する材料や、回路パターンを同ウエハーに焼き付ける原盤の母材「マスク...

しかし、EUV(極端紫外線)装置といった最先端のリソグラフィー装置はオランダ企業の独占状態にある。

ArFリソグラフィー技術は高機能な半導体向けとして現在主要な製造プロセスとされる一方、第5世代通信(5G)などの普及に伴い、EUV向けフォトレジストの需要増加が見込まれている。 .....

NILはシンプルな製造プロセスでEUV露光のように大電力を消費することもない。... 回路形成工程における1ウエハー当たり消費電力をEUV露光使用時と比較して10分の1程度にできることが分かった。&#...

同社はEUV露光装置メーカーの蘭ASMLからEUVペリクルの技術供与を受け、5月までに岩国大竹工場(山口県和木町)で生産設備の商業生産を開始した。... 透過率が低いと露光時間が長くなるためか、現在は...

フォトマスクは消耗品で消費量が多く、EUV用は高価なため、事業は急成長した。 AGCがEUV用から新規参入したのは、EUV以前のフッ化アルゴン光源露光などとは段違いの性能や品質が求め...

EUV露光装置を手がける蘭ASMLが、露光工程の歩留まり低下を防止する「ペリクル(防塵カバー)」を量産用途のEUV向けで初めて開発した。... ペリクル完成までEUV露光を使用しない方針だった米インテ...

東京エレクトロンは8日、ベルギーの研究機関imecと蘭ASMLが共同で運営するオランダの研究所「imec―ASML共同高NA EUV研究所」に自社の最先端の塗布現像装置を導入すると発表した。

EUV用は少量でも、高価で収益寄与が大きい。素材各社はEUV独特の品質要求に対応し、事業拡大を目指す。... 三井化学はEUV露光機を生産する蘭ASMLから技術供与を受け、同社から生産移管する形でフォ...

同製品の技術を持つEUV露光装置メーカーの蘭ASMLからライセンス提供を受け、生産する。... ペリクルで培った異物管理などの生産ノウハウをEUVペリクルにも生かしている。今後、EUV露光装置の進化に...

特にEUV関連では、最先端の半導体の製造に欠かせないEUVリソグラフィー技術の研究開発が進められてきた。EUVレジストなど基盤技術の開発では欠かせない存在となっている。 ... 渡辺...

半導体の最先端製造プロセスであるEUV(極端紫外線)向け需要は足元で加速している。いいタイミングだ」 ―EUVに求められる材料・技術は。 ... EUVで作製する半...

レーザーテックは、光源にEUVを使ったEUV露光用フォトマスク(半導体回路の原版)の欠陥検査装置で、シェア100%だ。EUV光は欠陥の検出感度が高いのが特徴だ。 インテルは新工場で、...

EUVレジストも採用が決まり、顧客の生産計画に合わせて出荷が増える見通し。

次世代のEUV市場拡大を見据え、「ArFもEUVも両方できるよう体制を整えた」という。

【電子版】先週の注目記事は? (2021/1/12 特集・広告)

■アクセスランキング・ベスト10(1/4~1/10) 1位 TSMC、つくばに開発拠点 先端半導体で日台連携 2位 子どもの発達障害、父親の加齢...

特に需要が高まっているのが、光源にEUVを使ったEUV露光用フォトマスク(半導体回路の原版)の欠陥検査装置で、同社が100%のシェアを持つ。従来EUV露光用マスクの検査では、主に光源に深紫外線(DUV...

富士フ、24年にEUVレジストのシェア10%へ (2021/1/5 素材・医療・ヘルスケア)

EUVを用いたリソグラフィ技術に関しても、需要増が見込まれる。 ... FFEMはEUVレジストの開発や生産に向け、今回の検査装置導入を含め計45億円を投資した。... 現在、信越化...

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