東北大学と共同開発した成膜方法を用いることで、ミストを使う同様の成膜方法「CVD法」と比べ、高温の熱を加える必要がない。... スパッタ法は真空、高温の環境が必要だが、ミストデポジション法は大気圧で成...

化学気相成長法(CVD)を活用し、廃プラの熱分解によって発生した炭化水素ガスを回収し、金属触媒によって複層CNTを作る。 通常のCVD法によるCNT製造では、アセチレ...

従来、r―GeO2は成膜時に蒸発するため、霧(ミスト)状の溶液を使い薄膜を形成する「ミストCVD(化学気相成長)」法でも低結晶領域が混入し、うまくエピタキシャル成長させ...

スパッタ法は化学気相成長法(CVD)に比べ装置コスト低減や材料の利用効率向上を図れる。同社はCVD法並みの高品質膜を形成する純度99・999%のターゲット材技術を構築。... ...

高密度に蒸着可能な複合化合物膜の技術を高速蒸着技術に適用することで、一般的なスパッタ法に比べて成膜速度が100倍超に向上し、コストを5分の1以下に抑えた。... 水分から保護するための封止・保護では従...

立命館大学総合科学技術研究機構の田中武司上席研究員は、人工合成ダイヤモンドの新たな製造法を見いだした。... 人工合成ダイヤモンドは高圧高温法(HPHT)、化学気相...

現在注力しているのは、化学気相成長(CVD)法による各種機能性材料の成膜事業だ。

【研究開発助成/一般研究開発助成(レーザプロセッシング)】▽高橋宏治/横浜国立大学大学院工学研究院「レーザピーニングによる3D造形セラミック部材の長寿命化」▽岡田達...

従来法では基材を板状の電極で挟み、電極と基材の隙間にプラズマを生成し成膜していた。... 今回、大気圧プラズマ化学気相成長(CVD)法の機構を見直し、電極間の片側から希釈ガスを流して反...

その結果、メタンを原料として銅箔(はく)上に1000度C程度でグラフェンを合成する熱CVD法が開発され、1原子層グラフェンの大面積合成が可能となった。 ... 通常の...

金属など固体をプラズマ化して蒸着する物理気相成長(PVD)法と、メタンなど気体を蒸着する化学気相成長(CVD)法を組み合わせて膜を開発した。 従来のC...

フェローテックホールディングスは、韓国の化学気相成長(CVD)―炭化ケイ素(SiC)事業から撤退する。... CVD―SiC事業は同社子会社アドマップ(岡山県玉...

プラズマ化学気相成長(P―CVD)法を用いてメタンなどを気体原料にプラズマで炭素触媒をステンレス基板表面に生成した。... P―CVDを用いてナノレベルで構造制御することで、表面炭素の...

実験炉は原料となる液体を加熱してガスにし、そのガスから炭素だけを取り出して固体にする化学気相成長(CVD)法で、CNTを合成する。

▽伝達効率98%以上を有する磁気ギアの技術開発(プロスパイン)▽ミニマルファブによる異種デバイス集積モジュールのプロセス開発&試作(ピーエムティー)▽近...

また月島機械との共同開発により、プラズマ化学気相成長(CVD)法で実車サイズの大型・曲面形状の樹脂窓にも均一にコーティングできる設備も完成した。 ...

神奈川県立産業技術総合研究所の金子智主任研究員とジャパン・アドバンスト・ケミカルズ(相模原市中央区)、東京工業大学の吉本護教授らの研究チームは、触媒が不要で、基板上に直接成長できるグラ...

プラズマ化学気相成長(CVD)法により、PC樹脂上のハードコート層の上に同層の劣化を抑えるガスバリア性の高いシリコーン層を形成する仕組み。 ... 従来、CVDが可能...

一般に垂直配向CNT膜は化学気相蒸着(CVD)法で形成されるが、事前に基板上に金属酸化物を薄い触媒担持膜として形成する必要がある。... スパッタリング法や真空蒸着法などの真空成膜プロ...

これに対して川原村准教授は、「大気中において化学反応の制御を省エネルギーで実現したのがミストCVD法だ」と強調する。 ... ミストCVD法を生み出せたのは、さまざまな分野の技術を融...