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EUV露光は回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の微細プロセスに対応する最先端の半導体加工技術。... 「従来の光源に比べ消費電力は約3分の1」(西沢正泰技術五部ス...
だが、開発メンバーを率いた宮井博基技術五部長は「フォトマスクになると難易度が全く違う。... 宮井部長は「それぞれの要素部品メーカーと密接に連携し、試行錯誤しながら必要なスペックに向けて開発を進めてい...
宮井博基技術五部長は「EUV光源を高出力で安定して発生させ、いつでも検査できるようにする技術的な課題が大きかった」と振り返る。 ... だが、採用したEUV光は「従来と原理や構造がま...