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グラファイト表面に塩化ルテニウム薄膜をパルスレーザー堆積法で成膜した。

パルスレーザー堆積法という成膜技術で5ミリメートル角の基板にラムダ型五酸化三チタンを形成した。

パルスレーザー堆積法を採用し、単結晶並みの発光効率のKMgF3膜を実現した。

原子の一つひとつを識別できる走査型トンエル顕微鏡と、高品質な薄膜作製ができるパルスレーザー堆積法を連結した装置を独自に開発した。

従来は添加剤の影響で調べられなかったが、エピタキシャル成長による新たな合成法で可能にした。... 窒素プラズマ支援パルスレーザー堆積法を使い、紫外レーザーで気化させた酸化タンタルと窒素ラジカルを反応さ...

開発した無機ELデバイスは、電極基板上に絶縁層/発光層/絶縁層をパルスレーザー堆積法による連続成膜で積層した発光デバイスであり、二重絶縁構造薄膜となっている。

パルスレーザー堆積法という方法を使って、厚さ20ナノ―50ナノメートル(ナノは10億分の1)の薄膜をつくる。パルスレーザー堆積法は、レーザーを材料の塊に当て、蒸発した材料を積もらさせる...

約200ナノメートル径のポリスチレン微粒子を規則正しく並べ、その上に酸化チタンを堆積(たいせき)させる。... 遠心力を使って薄膜を作るスピンコート法でポリスチレン微粒子を並べ、一定間...

短い間隔でレーザーを当ててプラズマを発生させ、放出された原子、分子を基板上に堆積(たいせき)する「パルスレーザー堆積法」を使って、結晶粒界のないBZYを製膜した。 ... 従来...

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