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AGCは28日、光源に波長13・5ナノメートル(ナノは10億分の1)の極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けのフォトマスク材の生産能力を、2020年に現在比約3倍に増...
旭硝子グループのAGCエレクトロニクス(福島県郡山市)は5日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けにフォトマスクブランクスを増産すると発表した。... フォト...
信越化学工業は18日、福井県越前市に半導体製造工程で使うフォトマスクブランクスの工場を新設すると発表した。... フォトマスクブランクスはシリコンウエハー上に回路を描画する際に回路の原版に使うフォトマ...